数百kHz帯の低周波RFイオン源内で生成した高密度プラズマ中における水素負イオンの密度計測を行い、その動作パラメータ、プラズマパラメータに関する特性の評価を行った。水素負イオン密度の計測にはCavity Ring Down (CRD)法を用いた。投入するRFパワーやプラズマ閉じ込めの改善に伴い、負イオン密度と共に負イオン密度は上昇する傾向を示した。この時、プラズマ生成部では電子温度が増加した。これらの結果は0. 4 Pa程度の低ガス圧において、負イオンの元となる水素の振動励起分子が増加し、また電極近傍では中性粒子との衝突による負イオンの解離が抑制されることを示唆した。
|