ナノシリカ粒子をエッチングマスクとすることで、直径30nmという極小の径を有するシリコンナノワイヤ(SiNW)アレイを大面積化が可能なMetal assisted chemical etching法にて作製することに成功した。光学特性評価では、作製されたSiNWアレイの高い光閉じ込め効果を確認した。また、Al_2O_3を原子層堆積法により、SiNW表面全体を覆うように製膜することに成功し、SiNWアレイを高品質化できることを実証した。最終的に初期的なSiNW太陽電池構造を作製し、その発電を確認することができた。
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