研究課題/領域番号 |
22K06510
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研究機関 | 東京薬科大学 |
研究代表者 |
平島 真一 東京薬科大学, 薬学部, 准教授 (80642264)
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研究期間 (年度) |
2022-04-01 – 2025-03-31
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キーワード | 第二級ホスフィンカルコゲニド / リンカルコゲニド類 / ヒドロホスフィニル化反応 / ビシナルビスホスフィン誘導体 |
研究実績の概要 |
同一分子内に複数の求核部位を有する化合物の求核部位制御は非常に困難であり、挑戦的な研究課題である。求核部位の選択性を制御し、多種多様な化合物へ誘 導できれば、合成戦略の観点から非常に発展性の高い合成論となる。本研究では、第二級ホスフィンスカルコゲニドに着目し、リン部位とカルコゲン部位の選択 的な求核性制御反応を開発し、多彩なリンカルコゲニド類の新規効率構築法の確立を目的とする。 本年度は、第二級ホスフィンカルコゲニドR2P(=Ch)H(Ch = S or Se)を用いたヒドロホスフィニル化反応/不斉プロトン化反応で得られるキラルビシナルビスホスフィン誘導体の合成変換の検討を行った。P=OとP=Sの選択的還元の条件を見つけることができなかったが、DPPE誘導体に変換することができた。 ニトロアルケンに対するヒドロホスフィニル化反応の検討中、副生成物としてビニルホスフィンオキシドが得られた。そこで、ヒドロホスフィニル化反応/NO2の脱離/ヒドロホスフィニル化反応のカスケード反応に展開し、ニトロアルケンから1工程でビシナルビスホスフィン誘導体を得る手法を開発した。本手法は、位置選択的にリン求核剤が導入されるため、所望の置換基を有するビシナルビスホスフィン誘導体を得ることができる。 また、第二級ホスフィンカルコゲニドR2P(=Ch)H(Ch = S or Se)を用いたカルコゲン化反応について検討を行った。求核部位選択的にカルコゲン化反応が進行する反応条件の探索により収率良くリンカルコゲニドを得ることができた。さらなる最適条件の探索により基質一般性の高い反応開発を目指す。
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現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
ヒドロホスフィニル化反応/不斉プロトン化反応で得られるキラルビシナルビスホスフィン誘導体の合成変換の検討に時間を要したが、カルコゲン化反応は順調に進展している。
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今後の研究の推進方策 |
カルコゲン化反応は順調に進展しており、求核部位制御だけでなく、求電子剤の反応位置も選択的であることも見出しつつある。さらなる最適条件の探索(触媒・反応溶媒・反応温度・反応濃度・添加剤)により基質一般性の高い反応開発を目指す。
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次年度使用額が生じた理由 |
化学選択性を制御したカルコゲン化反応に条件検討に時間を要した。そのため、使用予定であったカルコゲン化反応に関する研究経費が残ることとなった。これを次年度に持ち越し、カルコゲン化反応に関する研究経費に使用する予定である。
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