ダイヤモンドの微細加工のため、Ni金型への固溶を用いたエッチング技術を開発した。本研究ではナノインプリント用のNi微細金型をダイヤモンド基板に高温プレスし、5~50マイクロメートル幅・2マイクロメートル深さのフィン構造が得られた。また冷却によりNi/ダイヤモンド間にグラファイト層が析出し、その後再加熱することでグラファイト層が剥離した。これによりNi金型を剥離し再使用できると期待できる。一方ボロン濃度2E16/cm3・厚さ1マイクロメートルの導電層を持つダイヤモンド基板を用いて50Hzの交流磁場の軽減を試みたが有意な磁場遮蔽効果は見られず、導電性や膜厚の向上が必要であると考えられる。
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