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2023 年度 実績報告書

ミスマッチ界面の熱伝導制御に向けた物理機構の解明と手法の確立

研究課題

研究課題/領域番号 22K14189
研究機関東京大学

研究代表者

許 斌  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 特任助教 (20849533)

研究期間 (年度) 2022-04-01 – 2024-03-31
キーワード界面熱伝導 / ミスマッチ系統 / 自己組織化単相膜 / 二次元材料 / フォノンエンジニアリング
研究実績の概要

本研究は、異なるフォノン周波数を持つ材料間の界面熱伝導(TBC)を改善することを目指し、ミスマッチ界面における熱伝導メカニズムを解明し、界面修飾を通じてTBCを向上させることを試みた。研究の二年目には、初年度に金属とダイヤモンドのモデルを用いて得た自己組織化単分子層(SAM)修飾時のTBC計測結果の理論解析を行った。さらに、2次元材料を界面層として使用することによるTBCの実験的研究を継続した。
(1)SAM修飾の場合、分子動力学シミュレーションを用いて異なるSAM膜の長さと被覆率がTBCに与える影響を調査した。結果として、高い被覆率では、異なる長さのSAM膜が同様の配向性を示し、TBCはSAM膜の厚さに比例して増加することがわかった。被覆率が低下すると、SAMの配向性は一度低下し、その後、SAM膜の長さが一定値に達すると、TBCの増加に転じる。この二段階的なTBCの傾向は、界面でのフォノンの挙動と熱伝導の変化に密接に関連している。
(2)2次元材料を使用した場合、グラフェン層の厚さが増すにつれてTBCが増加し、その後収束する現象が確認された。これはフォノン輸送が弾道から拡散へと移行する過程と関連している。一方で、グラフェン-MoS2の異質構造では、TBCが厚さに依存せず、これはフォノンの強い局在化によるものであると考えられる。また、欠陥を含むグラフェンでは、フォノンの平均自由行程が短くなり、TBCの収束が早まるが、最終的には欠陥の有無にかかわらずTBCが一定になる。
この研究は、フォノン輸送レジームとTBCとの関係を明らかにし、熱インターフェースの設計と最適化におけるフォノン輸送の理解の重要性を示している。また、欠陥によるTBCへの影響としての弾性散乱と非弾性散乱の相対的な寄与についても新たな洞察を提供している。

  • 研究成果

    (8件)

すべて 2024 2023

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 2件、 査読あり 2件) 学会発表 (5件) (うち国際学会 2件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Unraveling the mechanisms of thermal boundary conductance at the graphene-silicon interface: Insights from ballistic, diffusive, and localized phonon transport regimes2024

    • 著者名/発表者名
      Yue Jincheng、Hu Shiqian、Xu Bin、Chen Rongkun、Xiong Long、Guo Rulei、Li Yuanzhe、Nian Lei-Lei、Shiomi Junichiro、Zheng Bo
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 109 ページ: 115302~115302

    • DOI

      10.1103/PhysRevB.109.115302

    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Extremely suppressed thermal conductivity of large-scale nanocrystalline silicon through inhomogeneous internal strain engineering2023

    • 著者名/発表者名
      Xu Bin、Liao Yuxuan、Fang Zhenglong、Li Yifei、Guo Rulei、Nagahiro Ryohei、Ikoma Yoshifumi、Kohno Masamichi、Shiomi Junichiro
    • 雑誌名

      Journal of Materials Chemistry A

      巻: 11 ページ: 19017~19024

    • DOI

      10.1039/D3TA03011C

    • 査読あり / 国際共著
  • [学会発表] Unrevealing the unexpected large thermal boundary resistance induced by inelastic heat carrier trapping at GaN-diamond interface2023

    • 著者名/発表者名
      Bin Xu, Shiqian Hu, Rulei Guo, Fengwen Mu, Junichiro Shiomi
    • 学会等名
      2024 MRS Spring Meeting
    • 国際学会
  • [学会発表] Interfacial thermal conduction engineering in twist bilayer 2D materials2023

    • 著者名/発表者名
      Bin Xu, Meng An, Satoru Masubuchi, Yuanzhe Li, Tomoki Machida, Junichiro Shiomi
    • 学会等名
      第66回 フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム
  • [学会発表] Remarkably Suppression Effect on Thermal Boundary Resistance at GaN/Diamond Amorphous Interface2023

    • 著者名/発表者名
      Bin Xu, Fengwen Mu, Yingzhou Liu, Rulei Guo, Shiqian Hu, Junichiro Shiomi
    • 学会等名
      第7回フォノンエンジニアリング研究会
  • [学会発表] High thermoelectric performance of bulk silicon by a 3-dimensional network structure2023

    • 著者名/発表者名
      Bin Xu, Ryohei Nagahiro, Cheng Shao, Yifei Li, Zhenglong Fang, Yuanzhe Li, Yixuan Liao, Shinya Kato, Junichiro Shiomi
    • 学会等名
      10th US-Japan Joint Seminar on Nanoscale Transport Phenomena
    • 国際学会
  • [学会発表] HPT加工によるシリコン多結晶体の極低熱伝導化2023

    • 著者名/発表者名
      許 斌、Yifei Li、生駒 嘉史、河野 正道、塩見 淳一郎
    • 学会等名
      第60回 日本伝熱シンポジウム
  • [図書] Thermoelectric Micro/Nano Generators, Volume 2: Challenges and Prospects2023

    • 著者名/発表者名
      A Comprehensive Review of Phonon Engineering
    • 総ページ数
      34
    • 出版者
      John Wiley & Sons
    • ISBN
      978-1-394-25637-2

URL: 

公開日: 2024-12-25  

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