| 研究課題/領域番号 |
22K14749
|
|---|
| 研究種目 |
若手研究
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 審査区分 |
小区分36010:無機物質および無機材料化学関連
|
|---|
| 研究機関 | 東京理科大学 (2023)
北海道大学 (2022) |
|---|
研究代表者 |
岩崎 秀 東京理科大学, 工学部工業化学科, 助教 (30888136)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2022-04-01 – 2024-03-31
|
| キーワード | 異方的イオン拡散制御 / 固体間拡散 / イオン伝導体 / イオン導入 |
|---|
| 研究成果の概要 |
異方的イオン拡散制御 (ADC) 法に基づき、(i) 高圧下でのADC法 (HPDC法) による二次元層状化合物へのAgイオンおよびCuイオンの導入、(ii) HPDC法における高圧印加の意義の解明、(iii) 高圧を用いずともADC法で効率的にイオン拡散を実現するための新たな手法の開発に成功した。本研究により確立された技術は、層間を反応場とした層形成の基盤技術となると期待される。
|
| 自由記述の分野 |
材料化学
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
現代社会における便利な生活には、機能性材料が不可欠である。本研究は、機能性材料の探索空間を拡張するために貢献するものであり、今後、本研究で開発された技術を活用して、これまででは合成することができないような材料が発見されると期待される。
|
