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2023 年度 実施状況報告書

室温合成可能な新規単純化合物強誘電体群の開拓

研究課題

研究課題/領域番号 22K18307
研究機関東京工業大学

研究代表者

舟窪 浩  東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (90219080)

研究分担者 岡本 一輝  東京工業大学, 物質理工学院, 助教 (60965937)
研究期間 (年度) 2022-06-30 – 2025-03-31
キーワード室温合成 / 単純構造強誘電体 / 反応層フリー特性
研究実績の概要

本研究の目的は、超低消費電力で動作しCO2削減の切り札となる革新的強誘電体デバイスを実現するために、これまで不可能とされてきた室温合成可能な単純化合物強誘電体群を開拓することである。研究代表者は、陽イオンが1種類で結晶構造がシンプルな単純化合物(AXやAX2)であれば、結晶化のエネルギー障壁が低く合成時の劇的な低温化が可能ではないかとの着想を得た。本研究では、蛍石構造のHfO2基強誘電体とウルツ鉱構造のAlN基強誘電体を中心として結晶構造由来の強誘電性では不可能とされてきた、従来の常識を打破する“室温合成が可能な新規単純化合物強誘電体群”を開拓する。
本年度は、蛍石構造を有するHfO2基薄膜の内、強誘電性の得られる組成の広いHfO2-CeO2とウルツ鉱構造を有する(Al,Sc)N膜について、RFマグネトロンスパッタリング法を用いて非加熱での種々の組成の薄膜合成を、種々の基板上に試みた。その結果、以下を得た。
1.非加熱製膜した膜は基板の種類や下部電極の配向によらず(100)方向に配向しやすく、(100)が自己配向方向であることが明らかになった。この結果はHfO2-Y2O3膜でも観察されたことから、HfO2系強誘電体膜全体の傾向であることが明らかになった。
2.非晶質の透明電極ITO上に作製した膜では、膜厚が上昇するほど特性が向上した。TEM観察からその原因は、非晶質のITOの直上部分が十分に結晶化できていないことが明らかになった。この結果は、下部電極の結晶性改善によって、より特性が向上する可能性があることを示している。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

特性を向上させるために、下部電極と膜の界面の制御が重要であることが確認でき、今後の研究方針が明らかになった。

今後の研究の推進方策

下部電極の結晶性を向上させ、膜の結晶性および特性との関係を解明する。最終的に、より優れた特性を有する膜の作製をめざす。

次年度使用額が生じた理由

理由は以下である。
1.当初購入予定だった消耗品が、他の予算でカバーできたこと
2.参加する予定であった学会が、学内行事で参加できなかったこと
次年度は、昨年参加できなかった学会も参加し、積極的に成果を発信する予定である。

  • 研究成果

    (10件)

すべて 2024 2023 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 1件、 査読あり 2件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (6件) (うち国際学会 4件、 招待講演 2件) 図書 (1件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] No‐Heating Deposition of Ferroelectric x%YO1.5-(100-x%)(Hf1-yZry)O2 Films2023

    • 著者名/発表者名
      Takanori Mimura, Reijiro Shimura, Akinori Tateyama, Yoshiko Nakamura, Takahisa Shiraishi, Hiroshi Funakubo
    • 雑誌名

      physica status solidi (a)

      巻: 220 ページ: 2300100-1-6

    • DOI

      10.1002/pssa.202300100

    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Roadmap on ferroelectric hafnia- and zirconia-based materials and devices2023

    • 著者名/発表者名
      J. P. B. Silva, R. Alcala, U. E. Avci, N. Barrett, L. Begon-Lours, M. Borg, S. Byun, S-C. Chang, S-W. Cheong, D-H. Choe, J. Coignus, V. Deshpande, A. Dimoulas, C. Dubourdieu, I. Fina, H. Funakubo, ..., U. Schroeder
    • 雑誌名

      APL Materials

      巻: 11 ページ: 089201-1-70

    • DOI

      10.1063/5.0148068

    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Progress of Research on None-Perovskite Dielectric Materials2024

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi Funakubo, Kazuki Okamoto, Takao Shimizu, and Tomoaki Yamada
    • 学会等名
      STAC-D2MatE 2024 (The International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics - Data Driven Materials Research for Electronics 2024)
    • 国際学会
  • [学会発表] スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体薄膜のYSZ基板上への非加熱合成2024

    • 著者名/発表者名
      茶谷那知、平井浩司、安岡慎之介、岡本一輝、山岡和希子、井上ゆか梨
    • 学会等名
      第62回セラミックス基礎科学討論会
  • [学会発表] Stabilization and Identification of Ferroelectric HfO2 Thin Films2023

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi Funakubo, Yuma Takahashi, Takahisa Shiraishi, Kodera Masanori, Reijiro Shimura, Takanori Mimura, Keisuke Ishihama, Kazuki Okamoto, Hiroki Moriwake, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Yasuhiro Fujii, Akitoshi Koreeda
    • 学会等名
      IWDTF2023 (2023 International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices - Science and Technology)
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Ferroelectric and Piezoelectric Properties of Non-perovskite Simple Oxide2023

    • 著者名/発表者名
      Hiroshi Funakubo, Takao Shimizu, Takanori Mimura, and Kazuki Okamoto
    • 学会等名
      MRM2023/IUMRS-ICA2023
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体厚膜の非加熱合成2023

    • 著者名/発表者名
      茶谷那知、平井浩司、安岡慎之介、岡本一輝、山岡和希子、井上ゆか梨、舟窪浩
    • 学会等名
      第70回応用物理学会春季学術講演会
  • [学会発表] No heating deposition of CeO2-HfO2 ferroelectric thick films by sputtering method2023

    • 著者名/発表者名
      Nachi Chaya, Koji Hirai, Shinnosuke Yasuoka, Kazuki Okamoto, Wakiko Yamaoka, Yukari Inoue, and Hiroshi Funakubo
    • 学会等名
      MNC 2023 (36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference)
    • 国際学会
  • [図書] CSJカレントレビュー 固体材料開発のフロンティア - 熱力学的支配を超えた物質合成と新機能開拓を目指して2024

    • 著者名/発表者名
      舟窪浩、清水荘雄
    • 総ページ数
      6
    • 出版者
      化学同人
    • ISBN
      9784759814095
  • [備考] 東京工業大学 物質理工学院 材料系材料コース 舟窪研究室

    • URL

      https://f-lab.iem.titech.ac.jp/

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公開日: 2024-12-25  

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