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2023 年度 研究成果報告書

日本発の異種半導体常温接合による広帯域X線ガンマ線・光赤外線一体型撮像素子の開発

研究課題

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研究課題/領域番号 22K18721
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
審査区分 中区分16:天文学およびその関連分野
研究機関京都大学

研究代表者

鶴 剛  京都大学, 理学研究科, 教授 (10243007)

研究分担者 和田 武彦  国立研究開発法人宇宙航空研究開発機構, 宇宙科学研究所, 助教 (50312202)
松前 貴司  国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (10807431)
研究期間 (年度) 2022-06-30 – 2024-03-31
キーワードゲルマニウム撮像素子 / 異種半導体常温接合 / X線撮像素子 / 赤外線撮像素子
研究成果の概要

SiとGeの半導体結晶の接合技術「常温SAB」を用いて,0.5-100keVの広帯域X線・ガンマ線と,0.3-1.8μmの可視光・近赤外線を一気に観測可能な「Si-Ge一体型撮像素子」の開発研究を行った.Si-Ge単素子をSABでプロセスし,3つのアニーリング条件からベストの素子に対し光反応を評価した.その結果,Siは吸収しない赤外線による光電流を観測し, Si-Geの基本コンセプトを確認できた.次に撮像素子のプロセス上の課題として,Si側にX線SOI素子を利用し, 接合時にGeチップのエッジを丸くする必要を明らかにした.今後この改良を行うことでSi-Ge撮像素子が完成すると期待している.

自由記述の分野

天文学

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究はSi-Ge一体型撮像素子への第1歩であり,その実現は下記の意義がある.現状のSi以外の素材の2次元ピクセル撮像素子は全てバンプボンディングを介して2次元ASICで読み出す.これは複雑・高価で性能に限界がある.Si-Ge一体型は,自然な結晶接合を利用するので,安価で構造も強固である.ピクセルサイズや読み出しノイズなどの性能は,ベースのSi素子で決まり,高性能化が見込める.Ge以外も接合可能である.これは米国が独占している近赤外線領域では極めて重要である.低コストが重要な社会実装でも本研究の応用が見込める.例えば太陽光の影響がない赤外線TOFによる距離計測などに応用可能だろう.

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公開日: 2025-01-30  

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