研究課題/領域番号 |
23246006
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
応用物性・結晶工学
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研究機関 | 独立行政法人物質・材料研究機構 |
研究代表者 |
三谷 誠司 独立行政法人物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, グループリーダー (20250813)
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研究分担者 |
葛西 伸哉 物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, 主任研究員 (20378855)
介川 裕章 物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, 主任研究員 (30462518)
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連携研究者 |
林 将光 物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, 主任研究員 (70517854)
新関 智彦 物質・材料研究機構, 磁性材料ユニット, NIMSポスドク研究員 (40567749)
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研究協力者 |
温 超振
具 正祐
シャイカ トーマス
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研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2015-03-31
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キーワード | 格子整合 / 2重トンネル接合 / トンネル磁気抵抗効果 / 共鳴トンネル効果 / スピントロニクス素子 |
研究成果の概要 |
強磁性トンネル接合は、磁気ヘッドや磁気メモリの中心となる重要なスピントロニクス素子である。本研究では、高度な成膜技術を駆使して格子整合した強磁性トンネル接合の作製を行い、共鳴トンネル磁気抵抗効果の観測と新機能創成を試みた。bcc-Cu層中の量子井戸構造が共鳴効果の発現に有用であること、原理的には相性が悪いと思われる強い界面垂直磁気異方性と共鳴トンネル効果が共存できることなどを実証した。また、ホイスラー合金を用いた場合には、ほぼ無欠陥の文字通りの完全格子整合トンネル接合とその大きな磁気抵抗効果を得ることができた。これらの成果は、次世代の強磁性トンネル接合素子の高度化に大きく寄与するものである。
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自由記述の分野 |
スピントロニクス
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