|
溶融塩として主にCaCl2(850℃)を使用し、シリカ電解還元による低リン・低ホウ素シリコン製造法の開発を行った。高純度化検討については、得られたシリコン中の不純物濃度をICP-MSおよびGD-Mにより分析した。その結果、ホウ素については0.5 ppm以下、リンについては0.4 ppm以下を達成した。連続化プロセスの検討として、カソードに液体Zn-Si系を用いる検討を行った。SEM/EDX分析により、シリカからシリコンへの還元を確認した。さらに、液体Zn-Si合金からのSi回収についても初期検討を行い、結晶性Siの回収に成功した。
|
