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DNA損傷応答の持続におけるヒストンジメチル化修飾の役割を解明するために、DNA損傷応答因子の集積に係わるTudor領域がジメチル化ヒストンH3に集積するかどうかを検討した。DNA損傷応答因子の集積には、リン酸化を介したBRCT領域あるいはFHA領域の結合と、Tudor領域を介した結合の2つの様式が存在する。特に、メチル化修飾における結合には、後者のTudor領域が関与とする可能性が高いことから、53BP1蛋白質のＣ末に存在するTudor領域に着目して研究を進めた。まず、EGFPタグのついたTudor領域を細胞内で発現させ、DNA損傷後にEGFPの蛍光がフォーカスを形成するかどうかを検討した。このため、独自に開発したマイクロ照射法により細胞核内に局所的にDNA損傷を誘起し、ドット状の照射領域にEGFPの蛍光が集積することを観察した。さらに、このフォーカス形成がG9a阻害剤によって抑制されることを確認した。そこで次に、Tudor領域が認識するメチル化の部位を特定するために、EGFPタグを指標にした免疫沈降法を応用したIP-ウェスタン法を確立した。この手法により、Tudor領域に結合するヒストンH3を回収して、部位特異的なメチル化の関与が探索が可能になった。
これらの実験と平行して、EGFPタグのついたヒストンH3遺伝子を細胞に導入し、リジンのアラニン変異によりDNA損傷応答因子のフォーカス形成が抑制されることを検証する実験系を確立した。ヒストンH3のＮ末付近には、リジン4やリジン9などいくつかの候補リジンが存在するため、これらのリジンのアラニン変異体の影響を調べることが可能になった。
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