研究課題
基盤研究(B)
5 ~ 20 Vという比較的低電圧の直流電場をアルミナスラリーに印加することによって,粒子をケミカルフリーで凝集させることができた.直流電場による凝集体形成において,印加する電圧にほぼ比例して粒子の沈降速度が上昇した.電場印加時間の影響を検討した結果,電場印加時間が長いほど凝集体が成長するが,その成長速度は徐々に遅くなっていくことが分かった.より効果的な凝集促進のためには,印加する直流電場の電圧を増加させるよりも,電極間距離を狭くすることの方が有効であることが分かった.
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ケミカルエンジニヤリング
巻: 57 ページ: 782-786