| 研究課題/領域番号 |
23330035
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
新領域法学
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| 研究機関 | 中央大学 |
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研究代表者 |
佐藤 恵太 中央大学, 法務研究科, 教授 (60205911)
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| 研究分担者 |
外川 英明 中央大学, 法学部, 教授 (80407866)
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| 研究協力者 |
大友 信秀 金沢大学, 法学系, 教授
クア アネッテ マックスプランク知的財産法研究所, 主任研究員
フライアー ウイリアム 前ボルチモア大学, ロースクール, 教授
グエン フォン トゥイ ベトナム国家大学, 副教授
内海 正人 富士通, 知的財産部, 担当部長
仙波 芳一 , 行政書士
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-01 – 2016-03-31
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| キーワード | 意匠制度 / デザイン |
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| 研究成果の概要 |
意匠権の成立に際し、行政庁が実体要件審査を事前に行う「審査後登録主義」は、維持すべき必然の仕組みでないことがわかった。欧州は、歴史的に無審査で権利を付与してきた独仏型に沿う形で、EU指令を採択したため、日本の母法であるイギリス法、拒絶率の高い審査を行っていたスウェーデン法は、審査後登録主義を捨て無審査に転換し、英連邦諸国各国の対処も異なるからである。また、新しいデザインの模倣禁止について、３Dプリンター利用による侵害行為の立法解決策（著作権法の私的複製補償金の制度導入が不適切であること）、アイコンと画面デザインを区別せずに意匠登録すべき可能性等につき、立法的提言を行った。
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| 自由記述の分野 |
知的財産法
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