研究課題
基盤研究(B)
ハロゲン架橋一次元白金(II,IV)混合原子価錯体を用いて、水溶液でのエピタキシャル成長により膜厚1μm程度の薄膜単結晶を作製した。エピタキシャル結晶と表面が広く平坦な基板結晶(凹凸0.15μm以下)について、放射光X線マイクロビームを用いて、すれすれ入射X線回折実験により、薄膜単結晶および結晶表面からの回折X線強度を測定した。膜結晶と基板結晶からの実測の構造因子を計算値と比較した。基板結晶のみではR値は0.04~0.10、薄膜結晶では0.53以上であった。しかし、適切に測定された反射のみではR値は0.03~0.10と、広く平坦な結晶での表面層構造解析の可能性が示唆された。
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Acta Cryst.
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