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本研究では新たな高速成膜法として，液中プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜形成の研究を行った．この形成法は気体よりも分子密度の高い液体中で成膜を行うため，高速成膜と基板の冷却効果が期待できる．本研究ではCuなどの金属基板へのダイヤモンド薄膜の形成を目的とし，実験条件を変化させ実験を行った．また，ダイヤモンドの結晶に配向性や単結晶膜を得ることを目的とし，ダイヤモンド基板の結晶方位を変化させてダイヤモンド形成実験を実施し，形成される結晶への影響を調べた．さらに大面積(100)ダイヤモンド基板へ成膜を行い表面を観察した．
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