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酸化ケイ素を含む溶融酸化物の電気分解によるシリコンの還元を実施した．陰極とした鉄やモリブデンの表面では，電解によってシリコンの固溶体およびシリサイドが成長することを確認した．生成物中のシリコン活量を電解の条件と照合し，熱力学的視点および速度論から反応を考察した．
また、シリコンの精製において除去が最も困難とされるホウ素について，化学反応を伴った気相への除去を想定し，高温真空中で酸化ホウ素や亜酸化物の蒸発を調査した． B2O3(g) や B2O2(g) などの蒸気種をクヌーセンセル質量分析法によって定量的に評価し，共存する酸素のポテンシャルとホウ素の蒸発の関係を明らかにした．
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