(1)EBV潜伏感染からの再活性化の分子機構: EBVの再活性化はIEであるBZLF1遺伝子の転写の段階で厳密に制御されている。BZLF1遺伝子のプロモーターはCpGメチル化修飾のレベルは低いこと、再活性化に際しヒストン高アセチル化が付随することが報告されていた。我々は、潜伏状態のBZLF1プロモーターは、ヒストンH3K9me2/3、H3K27me3、H4K20me3などの抑制性修飾を受けており、一方で再活性化誘導によってヒストンアセチル化、H3K4me3などの転写活性化の指標となる修飾は亢進していることを見いだした。HDAC阻害剤TSA、H3K27me3阻害剤DZNepの単独ではほとんどBZLF1を誘導しなかったが、二剤を併用することでBZLF1 mRNA量は強力に増強された。H3K27me3メチル化酵素Ezh2をノックダウンするとBZLF1の発現が若干上昇し、TSAを添加することでさらに誘導された。H4K20me3のメチル化酵素であるSuv420h1のノックダウンもおこなったところ、Ezh2のノックダウンと同様の結果が得られた。 (2)ウイルス複製工場(RC)の構造解析:EBVのゲノム複製は宿主細胞の核内に局在するReplication compartment(RC)と呼ばれる場で行われる。RCはゲノムの複製ばかりでなく転写やウイルスカプシド形成の場となっている。従ってRCにはこれらのイベントに関与するウイルス蛋白質や、宿主細胞蛋白質が集積する。我々は、RCの内部にBMRF1-richな構造(BMRF1-coreと名付けた)があり、ウイルスゲノムはBMRF1コアの周囲で複製され,後にコア内に貯蔵された。ウイルスの転写は感染の時間経過に従って最早期、早期,後期に分類されている。早期転写はBMRF1コアの周囲でおこり,後期転写はコアの中でおきることを見いだした。
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