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2014 年度 研究成果報告書

ヒ素化合物によるヒストン修飾の多様性とその意義の解明

研究課題

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研究課題/領域番号 23510082
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 放射線・化学物質影響科学
研究機関帝京大学

研究代表者

鈴木 俊英  帝京大学, 薬学部, 准教授 (60256055)

研究期間 (年度) 2011-04-28 – 2015-03-31
キーワードヒ素化合物 / エピジェネティクス / ヒストン修飾 / 遺伝子誘導
研究成果の概要

本研究課題は、ヒ素化合物によるヒストン修飾の多様性を明らかにするとともに、その意義の解明を試みたものである。
三価無機ヒ素[iAs(III)]は、ヒストンH3をリン酸化およびメチル化修飾する事を明らかにするとともに、細胞内での局在を調べたところリン酸化修飾はある限られたDNAが巻き付いているヒストンでのみ観察された。さらに検討を進め、iAs(III)によって誘導されるFOS、EGR1などの遺伝子が巻き付いているヒストンが修飾を受けている事が明らかとなり、iAs(III)によるこれらの遺伝子の誘導は、ヒストンが修飾されクロマチン構造が緩んだ部位に転写因子が結合して引き起こされる事が示唆された。

自由記述の分野

毒性学

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公開日: 2016-06-03  

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