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2013 年度 実績報告書

ヘテロエピタキシャル表面での吸着結晶形態の自己組織化

研究課題

研究課題/領域番号 23540456
研究機関慶應義塾大学

研究代表者

齋藤 幸夫  慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (20162240)

キーワードヘテロエピタキシー / 微細加工基板 / SI/SiO2界面 / 自己組織化 / 格子歪み
研究概要

結晶基板上に異質原子が吸着するヘテロエピタキシーの系で見られる自己組織化について、計算機シミュレーションと理論解析を行って調べた。
基板と吸着系の原子サイズが異なるため、格子不整合に伴う歪エネルギーが吸着島の形態や濡れ性に影響する。本年度は柱状に微細加工した基板上に乗っている吸着島に対して、濡れ性と歪エネルギーの競合で現れる新しい状態として非対称キャシー・バクスター状態の存在を示し、また濡れが強いときには不完全串刺し状態という新しい状態を見出した。この成果は液体では見られない、結晶に固有の濡れ現象であり、新規性に富んでいるので、Phys. Rev. Lett.に掲載決定された。
またこれまでSiO2基板上のSi結晶島が高温でSiOを形成しながら蒸発していくときの、結晶島の異常拡散について、本質を抽出した簡単なモデルを提案し、シミュレーションと理論解析を行ってきた。本年度、ほとんど島サイズに依存しない拡散係数の起源が基板と吸着結晶と真空外界との三重点でのピンニング/脱ピンニングによるものであることを見出し、実験との比較を行った。この結果については論文を投稿中である。
また、平らな基板の上でヘテロ結晶成長するとき、多数の結晶核が同時に生成して多結晶となる。多結晶が方向性成長するとき隣接する結晶粒の間で競合して粗大化が起きる。以前、弾道蒸着成長系でこの結晶粒の粗大化を調べたが、より基本的な場合としてファセットを持つ結晶粒の幾何学的選別をシミュレートし、2次元系では既知の理論が正しいけれど、3次元系では新しいスケール則が成り立つことを見出した。

  • 研究成果

    (9件)

すべて 2014 2013 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (7件) (うち招待講演 2件)

  • [雑誌論文] Wetting of elastic solid on nano-pillars2014

    • 著者名/発表者名
      Maxim Ignasco, Yukio Saito, Peter Smereka, and Olivier Pierre-Louis
    • 雑誌名

      Physical Review Letters

      巻: accepted ページ: 5 pages

    • DOI

      accepted

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Solid-state wetting on nano-patterned substrate2013

    • 著者名/発表者名
      Yukio Saito, Maxim Ignasco and Olivier Pierre-Louis
    • 雑誌名

      Comptes Randus - Physique

      巻: 14 ページ: 619-628

    • DOI

      10.1016/j.crhy.2013.06.010

    • 査読あり
  • [学会発表] Interfacial reaction on the Si-SiO2 system studied by Low Energy Electron Microscpy and Kinetic Monte Carlo2013

    • 著者名/発表者名
      P. Muller, F. Leroy, F. Cheynis, Y. Saito and E. Bussmann
    • 学会等名
      19th International Vaccum Congress
    • 発表場所
      Palais des Congres, Paris, France
    • 年月日
      20130909-20130913
    • 招待講演
  • [学会発表] Domain competition in deposition growth

    • 著者名/発表者名
      Keiyu Osada, Hiroyasu Katsuno, Toshiharu Irisawa, Shintaro Suzuki, and Yukio Saito
    • 学会等名
      17th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy
    • 発表場所
      University Warsaw, Warsaw, Poland
  • [学会発表] Dynamics of Si island during evaporation

    • 著者名/発表者名
      Yukio Saito and Olivier Pierre-Louis
    • 学会等名
      17th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy
    • 発表場所
      University Warsaw, Warsaw, Poland
  • [学会発表] ヘテロ基板上の吸着島拡散 II

    • 著者名/発表者名
      齋藤幸夫、Olivier Pierre-Louis 2013
    • 学会等名
      日本物理学会秋季大会
    • 発表場所
      徳島大学常三島キャンパス
  • [学会発表] 結晶薄膜の濡れと脱濡れ

    • 著者名/発表者名
      齋藤幸夫
    • 学会等名
      学習院計算機センター特別研究プロジェクト「結晶成長の数理」
    • 発表場所
      学習院大学西5号館
    • 招待講演
  • [学会発表] 幾何学的選別再考

    • 著者名/発表者名
      齋藤幸夫
    • 学会等名
      学習院計算機センター特別研究プロジェクト「結晶成長の数理」
    • 発表場所
      学習院大学西5号館
  • [学会発表] 幾何学的選別再考

    • 著者名/発表者名
      齋藤幸夫
    • 学会等名
      日本物理学会第69回年次大会
    • 発表場所
      東海大学湘南キャンパス

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公開日: 2015-05-28  

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