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スパッタリング法とは、放電等によって生じたイオンを電場によって加速したのちターゲットと呼ばれる固体物質にぶつけ、その構成物質を気相にたたき出す反応である。この反応は工業的にも広く利用されており、この場合は清浄なターゲットを超高真空下において
物理スパッタリングが主流である。それに対し、ターゲットと試料ガスとの反応を利用した化学スパッタリングは系が「汚く」なることから避けられることが多い。我々は、化学スパッタリングの持つこの欠点を積極的に利用する「超低温化学スパッタリング法」を開
発し、様々な含遷移金属活性種の物理化学的性質を明らかにしてきた。
本年度も昨年度に引き続き、チオール類による貴金属ナノクラスターの安定化に対するモデルとして重要な「貴金属－硫黄活性種の安定性と反応性」に注目した研究を行った。特に、「金－硫黄活性種」について重点的に研究を行い、マイクロ波分光法の特徴を活かした高精度の解析を行った。結果の一部については学会発表済みであり、現在論文投稿準備を進めている。また、硫黄を含む化学種ではないが、金や銀などを含む短寿命についても多くの知見を得た。これらについても、順次論文発表を進めている。
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