• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 課題ページに戻る

2013 年度 実績報告書

酸化度の異なる相転移酸化物結晶の成長と電気伝導特性に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 23560013
研究機関東海大学

研究代表者

沖村 邦雄  東海大学, 工学部, 教授 (00194473)

キーワード酸化バナジウム薄膜 / 相転移 / マグネリ相 / 電気的特性 / 結晶変態
研究概要

2013年度は2011年度及び2012年度の成果を踏まえて,酸化度の異なるバナジウム酸化膜の中で,V2O3組成及びVO2組成を有する薄膜に特に注目して構造及び電気的特性について詳細に研究を実施した.その結果,反応性スパッタによって低い分圧下で作製したV2O3薄膜は0.0001Ωcm台の低い抵抗率を有するが,酸素中の適切な条件でのポストアニール処理にによって大きく酸化状態が変化し,マグネリ相であるV4O7から化学量論比のVO2が成長することがわかった.更に酸化度のより高いV6O13相の成長条件を見出した.まず,V4O7マグネリ相は低温での相転移特性を有することが知られているがその物性は未解明の部分が多く,その成長条件の確立は非常に重要である.また,VO2は本研究課題の中心材料である.本研究によって,アニールによって作成されたVO2薄膜は直接堆積によって得られたVO2薄膜に比べて電子状態に変化が見られ,酸素欠陥の補償が進み,良好な絶縁体-金属相転移特性を有することが判明した.結晶粒もより大きく成長しており,エピタキシャル成長しないSi基板上においてμmサイズ以上の大きな結晶粒が得られた.これによってSi基板上でVO2薄膜を用いた温度センサーやスイッチング素子の形成が可能になり,VO2薄膜の工学応用にとって大きな進展である.更にV6O13薄膜はその特徴的な結晶構造から,リチウムイオン電池の負電極材料への応用が期待されており,その安定な成長は今後の電池開発へ向けて有益なものとなる.以上のように本研究課題の推進によって,V2O3からV2O5の組成の中で,工学的・理学的な応用価値の高いV2O3,V4O7,VO2,V6O13組成のバナジウム酸化物薄膜の作製条件を明確にできた.この成果は今後の電子素子や電池開発等に貢献する成果である.

  • 研究成果

    (11件)

すべて 2014 2013

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (7件)

  • [雑誌論文] Effects of energetic substrate-incident ions on the growth of crystalline vanadium dioxidefilms in inductively coupled plasma-assisted sputtering2014

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      Japanese. Journal of Applied Physics

      巻: 53 ページ: 035802-1~6

    • DOI

      doi.org/10.7567/JJAP.53.035802

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Temperature - dependent Raman and ultraviolet photoelectron spectroscopy studies on phase transition behavior of VO2 films with M1 and M2 phases2014

    • 著者名/発表者名
      Kunio Okimura, Nurul Hanis Azhan, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, Mustapha Zaghrioui and Joe Sakai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 115 ページ: 153501-1~6

    • DOI

      doi.org/10.1063/1.4870868

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Phase Selective Growth and Characterization of Vanadium Dioxide Films on Silicon Substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Tomo Watanabe, Kunio Okimura, Tetsuya Hajiri, Shin-ichi Kimura, and Joe Sakai
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 113 ページ: 163503-1~ 6

    • DOI

      doi.org/10.1063/1.4802652

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Pulsed laser-deposited VO2 thin films on Pt layers2013

    • 著者名/発表者名
      Joe Sakai,Mustapha Zaghrioui, Vinh Ta Phuoc, Sylvain Roger, C_ecile Autret-Lambert, and Kunio Okimura
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 113 ページ: 123503-1~6

    • DOI

      doi.org/10.1063/1.4795813

    • 査読あり
  • [学会発表] 反応性スパッタ法によるVO2(B)薄膜の成長とアニールによるVO2(M1)への変態2014

    • 著者名/発表者名
      ヌルーハニス アズハン, 蘇 魁, 沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      20140319-20140319
  • [学会発表] TiN導電バッファー層によるVO2薄膜の結晶成長及び転移特性の改善2014

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズミヤ, 沖村邦雄
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
    • 年月日
      20140318-20140318
  • [学会発表] Electrical Properties of VO2 Thin Films and Post-annealing Effects on the Growth of Non-stoichiometric VOx2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      MJIIT-JUC Joint Symposium 2013 (MJJS 2013)
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      20131106-20131106
  • [学会発表] ICP支援スパッタ法における基板入射イオンエネルギー分析とVO2薄膜の低温成長に関する研究2013

    • 著者名/発表者名
      モハメッド シュルズミヤ,ヌルー ハニス アズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • 年月日
      20130916-20130916
  • [学会発表] スパッタ法により堆積したVO2薄膜の電気的特性とポストアニールによる伝導型反転2013

    • 著者名/発表者名
      ヌルー ハニス アズハン,沖村邦雄
    • 学会等名
      第74回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
    • 年月日
      20130916-20130916
  • [学会発表] Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical switching characteristics2013

    • 著者名/発表者名
      Md. Suruz Mian and Kunio Okimura
    • 学会等名
      12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park
    • 年月日
      20130711-20130711
  • [学会発表] Electrical Properties of Post-annealed VO2 Thin Films on Silicon Substrates with Metal-Insulator Transition2013

    • 著者名/発表者名
      Nurul Hanis Azhan and Kunio Okimura
    • 学会等名
      12th International Symposium on Sputtering and Plasma Proccess (ISSP 2013)
    • 発表場所
      Kyoto Research Park
    • 年月日
      20130710-20130710

URL: 

公開日: 2015-05-28  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi