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2013 年度 実績報告書

金を助触媒とした鉄シリサイド光化学ダイオード

研究課題

研究課題/領域番号 23560018
研究機関神奈川県産業技術センター

研究代表者

秋山 賢輔  神奈川県産業技術センター, その他部局等, 主任研究員 (70426360)

キーワード鉄シリサイド / 光化学ダイオード / 可視光
研究概要

光触媒は日本の研究が先進し、水や空気清浄化技術等で利用され人工光合成への期待もされるクリーン技術である。現状ではその可視光応答が課題となっている。一方、鉄(Fe)とシリコン(Si)で構成される鉄シリサイド半導体(β-FeSi2)は、良質な薄膜成長技術の飛躍的進展により、光半導体としての基礎物性の理解と発光・受光素子用の応用への研究がこの10年来わが国を中心に進められている半導体である。
本研究は鉄シリサイド半導体の禁制帯幅が0.80eVと狭いこと、光吸収係数が1eVで10E+5 /cmと大きいことに着目し金(Au)を助触媒として担持した光化学ダイオードを作製し、可視光応答可能な光触媒の実現を目指して可視光応答への可能性を調査した。
その結果、シリコン上の鉄シリサイド結晶内部の欠陥密度を飛躍的に低下させ、光励起キャリアの拡散長よりも小さな微細粒結晶の合成を実現した。その際、電子顕微鏡による粒径評価、フォトルミネッセンス発光特性による欠陥密度の評価結果をフィードバックさせることで、合成条件の最適化を行った。さらにシリコン粉末表面に鉄シリサイド微粒子を合成した試料の光触媒特性を評価した結果、可視光照射下における水の半分解に起因した水素生成が確認され、この半導体の光触媒特性が確認された。

  • 研究成果

    (22件)

すべて 2014 2013 その他

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (14件) 図書 (1件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Electrical property of (110)-oriented non-doped Mg2Si films with p-type conduction prepared by RF-magnetron sputtering method2014

    • 著者名/発表者名
      S. Ogawa, A. Katagiri, M. Matsushima, K. Akiyama, Y. Kimura, H. Uchida and H. Funakubo
    • 雑誌名

      Journal of Electronic Materials

      巻: 43 ページ: 2269-2273

    • DOI

      10.1007/s11664-014-3040-6

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Epitaxial growth of (010)-oriented β-FeSi2 film on Si(110) substrate2013

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, H. Funakubo and M. Itakura
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings

      巻: 1493 ページ: 407-412

    • DOI

      10.1557/opl.2013.407-412

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evaluation of β-FeSi2/Si-interface using Ag-coating on Si surface2013

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, S. Motomura, G. Hayashi, H. Funakubo, and M. Itakura
    • 雑誌名

      Physica status solidi (c)

      巻: 10 ページ: 1684-1687

    • DOI

      10.1002/pssc.201300331

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Epitaxial growth of Mg2Si film on strontium titanate single crystal2013

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, A. Katagiri, S. Ogawa, M. Matsushima and H. Funakubo
    • 雑誌名

      Physica status solidi (c)

      巻: 10 ページ: 1688-1691

    • DOI

      10.1002/pssc.201300332

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Microstructure analysis of β-FeSi2 grown on Ag-coated Si(001) substrate2013

    • 著者名/発表者名
      S. Motomura, G. Hayashi, M. Itakura and K. Akiyama
    • 雑誌名

      Physica status solidi (c)

      巻: 10 ページ: 1815-1818

    • DOI

      10.1002/pssc.201300359

    • 査読あり
  • [学会発表] Photoluminescence enhancement from β-FeSi2 on Ag-coated Si

    • 著者名/発表者名
      K. Akiyama, S. Motomura, K. Hayashi, H. Funakubo and M. Itakura
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference on Green Technology with Silicides and Related Materials 2013
    • 発表場所
      筑波大学
  • [学会発表] Microstructure analysis of β-FeSi2 grown on Ag-coated Si(001) substrate

    • 著者名/発表者名
      S. Motomura, K. Hayashi, M. Itakura and K. Akiyama
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference on Green Technology with Silicides and Related Materials 2013
    • 発表場所
      筑波大学
  • [学会発表] Epitaxial Growth of Mg2Si Films by RF Magnetron Sputtering Method

    • 著者名/発表者名
      A. Katagiri, K. Akiyama, S. Ogawa, M. Matsushima and H. Funakubo
    • 学会等名
      Asia-Pacific Conference on Green Technology with Silicides and Related Materials 2013
    • 発表場所
      筑波大学
  • [学会発表] (110)Si基板上への鉄シリサイド薄膜のエピタキシャル成長

    • 著者名/発表者名
      秋山賢輔,高橋亮,松本佳久,舟窪浩,板倉賢
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
  • [学会発表] Ag コートSi(100)基板上に形成したβ-FeSi2 薄膜の時間分解フォトルミネッセンス評価

    • 著者名/発表者名
      秋山賢輔, 末益崇
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
  • [学会発表] AgコートSi基板上に成長させたβ-FeSi2薄膜の微細構造解析

    • 著者名/発表者名
      本村俊一, 林剛平, 板倉賢, 秋山賢輔
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
  • [学会発表] スパッタ法により合成した高結晶性Mg2Si膜の電気特性

    • 著者名/発表者名
      小川正太,片桐淳生,松島正明,秋山賢輔,木村好里,内田寛,舟窪浩
    • 学会等名
      第74回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      同志社大学
  • [学会発表] p-type conduction in non-doped epitaxial Mg2Si thick films prepared by RF magnetron sputtering method

    • 著者名/発表者名
      S. Ogawa, A. Katagiri, M, Matsushima, K. Akiyama, Y. Kimura, H. Uchida and H. Funakubo
    • 学会等名
      Materials Research Society Fall Meetings
    • 発表場所
      Boston, USA
  • [学会発表] スパッタリング法によるMg2Siエピタキシャル膜の作製と熱電特性

    • 著者名/発表者名
      新井洋喜, 小川正太, 松島正明, 木村好里, 片桐淳生, 清水荘雄, 秋山賢輔, 舟窪浩
    • 学会等名
      第52回セラミックス基礎科学討論会
    • 発表場所
      愛知県産業労働センター
  • [学会発表] Si粒子表面に形成したβ-FeSi2の光触媒効果による水素生成

    • 著者名/発表者名
      秋山賢輔, 高橋亮, 吉水暢治, 舟窪浩, 入江寛, 松本佳久
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学
  • [学会発表] HRTEMを用いた3C-SiC/Si(001)界面における積層欠陥の解析

    • 著者名/発表者名
      石田篤志, 山﨑 順, 稲元伸, 野村優貴, 秋山賢輔, 平林康男, 田中 信
    • 学会等名
      物理学会2013秋季大会
    • 発表場所
      徳島大学
  • [学会発表] 3C-SiC/Si (001) epitaxial interface and stacking faults clarified by aberration-corrected transmission electron microscopy

    • 著者名/発表者名
      J. Yamasaki, S. Inamoto, Y. Nomura, H. Tamaki, A. Ishida, K. Akiyama, Y. Hirabayashi and N. Tanaka
    • 学会等名
      Frontiers of aberration corrected electron microscopy conference 2013
    • 発表場所
      Kasteel Vaalsbroek, オランダ
  • [学会発表] Si (001)基板上3C-SiCエピタキシャル薄膜における積層欠陥発生プロセスの収差補正TEM解析

    • 著者名/発表者名
      石田篤志, 山﨑篤志, 山﨑順, 稲元伸, 野村優貴, 秋山賢輔, 平林康男, 田中 信夫
    • 学会等名
      物理学会第69回年次大会
    • 発表場所
      東海大学
  • [学会発表] Growth of epitaxial Mg2Si thick films by RF sputtering method and their thermoelectric property

    • 著者名/発表者名
      S. Ogawa, A. Katagiri, M. Matsushima, K. Akiyama, H. Uchidaand H. Funakubo
    • 学会等名
      The 32nd International conference on Thermoelectrics
    • 発表場所
      神戸国際会議場
  • [図書] シリサイド系半導体の科学と技術2014

    • 著者名/発表者名
      前田佳均編著 秋山賢輔(他14名)
    • 総ページ数
      325
    • 出版者
      裳華房
  • [備考] 神奈川県産業技術センター

    • URL

      http://www.kanagawa-iri.go.jp/researchresults.html

  • [産業財産権] 鉄シリサイド半導体、鉄シリサイド半導体薄膜の製造方法、並びに発光素子及び受光素子2014

    • 発明者名
      秋山賢輔, 松本佳久, 高橋 亮, 長沼康弘
    • 権利者名
      神奈川県
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2014-28804
    • 出願年月日
      2014-02-18

URL: 

公開日: 2015-05-28  

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