研究課題/領域番号 |
23560026
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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研究機関 | 高知工科大学 |
研究代表者 |
牧野 久雄 高知工科大学, 総合研究所, 准教授 (40302210)
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連携研究者 |
山本 哲也 高知工科大学, 総合研究所, 教授 (30320120)
佐々木 高義 物質・材料研究機構, NIMSフェロー (70354404)
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研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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キーワード | 酸化物半導体 / 酸化亜鉛 / 配向制御 / ドーピング / アクセプタ |
研究概要 |
直流アーク放電反応性プラズマ蒸着法を用いた酸化亜鉛多結晶薄膜の成膜において、ガラス基板上での配向性制御と窒素アクセプタドーピング特性について検討した。アクセプタドーピング特性については、酸化亜鉛薄膜への単独ドーピングと同時ドーピングとを検討し、電気伝導特性における特異な振る舞いを見出したがp型化には至らなかった。配向性制御では、ナノシートシード層を用いた配向制御において、配向度や面内配向性、結晶子サイズといった薄膜ミクロ構造にもたらす効果を解明するとともに、薄膜ミクロ構造がキャリア伝導特性に与える影響を明らかにした。
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