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2013 年度 実施状況報告書

デバイス動作下での電子状態、伝導特性の同時計測

研究課題

研究課題/領域番号 23560033
研究機関独立行政法人物質・材料研究機構

研究代表者

山下 良之  独立行政法人物質・材料研究機構, その他部局等, その他 (00302638)

キーワード光電子分光 / ゲートスタック / 界面準位
研究概要

近年、多種多様なデバイスが開発され実用化に向けて研究がなされている。デバイスの物性解明には電子状態の測定が必要不可欠であるが、電子状態測定は無バイアス下で行われており、デバイスの物性を詳細に理解するにはデバイス動作下での電子状態測定が必要不可欠である。本研究では申請者のグループが開発したバイアス電圧印加硬X線光電子分光法を用いてデバイス動作下での電子状態の直接観測を行う。この手法は作製した素子をそのままの状態でかつバイアス電圧印加状態で電子状態が測定可能な手法である。
当該年度は金属/極薄酸化物/半導体界面における極薄酸化物/半導体界面の界面準位のエネルギー準位の直接観測に成功した。本手法では界面準位密度 1/10000でも検出可能な高検出手法であることがわかった。窒素の導入により 界面準位密度が増加することがわかり、窒素濃度にかかわらず、界面準位の形状は変化せず、密度のみ変化することがわかった。
また用いる電極によりゲートスタック構造のポテンシャル分布の電圧及びゲートメタル依存性の観測に成功した。本成果はゲートスタック構造の際問題となっているフェルミレベルピニングの起源を示唆する結果であった。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

当初の目的のゲートスタック構造のフェルミレベルピニングを示唆する結果を得る事に成功するとともに、金属/極薄酸化物/半導体界面における極薄酸化物/半導体界面の界面準位のエネルギー準位を高検出で観測する新しい手法を開発した

今後の研究の推進方策

固体電池の電子状態計測をすることを目的としたが、試料の作成ががかなり困難で本年度かなりの時間を費や、ようやく実験ができるようになった。また、本課題の当初の目的とは関係ないが、太陽電池を交流返還する際に重要なパワコンの素子であるSiCパワーデバイスの欠陥同定を本手法にて行う(本手法は酸化物/半導体界面の界面準位のエネルギー準位を高検出で検出可能な事がわかった為

次年度の研究費の使用計画

共同研究により進展があり、さらに光電子分光スペクトルの測定について、より精度を高める必要が生じたため、残額が生じた。
このため、光電子分光スペクトルの高精度測定および試料作製のための機器および消耗品と、
電子デバイスの研究分野において最も重要な国際・国内会議に成果発表を次年度に行うため、未使用額はその経費に充てることとしたい。

  • 研究成果

    (12件)

すべて 2014 2013

すべて 雑誌論文 (8件) (うち査読あり 8件、 謝辞記載あり 1件) 学会発表 (3件) (うち招待講演 1件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Direct observation of bias-dependence potential distribution in metal/HfO2 gate stack structures by hard x-ray photoelectron spectroscopy under device operation2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamashita, H. Yoshikawa, T. Chikyo, K. Kobayashi
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 115 ページ: 5pages

    • DOI

      10.1063/1.4863637

    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Chemical insight into electroforming of resistive switching manganite heterostructures2013

    • 著者名/発表者名
      Francesco Borgatti, Chanwoo Park, Anja Herpers, Francesco Offi, Ricardo Egoavil, Yoshiyuki Yamashita, Anli Yang,e Masaaki Kobata, Keisuke Kobayashi, Jo Verbeeck, Giancarlo Panaccione and Regina Dittmann
    • 雑誌名

      Nanoscale

      巻: 5 ページ: 3954-3960

    • DOI

      10.1039/C3NR00106G

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Bias-voltage application in a hard x-ray photoelectron spectroscopic study of the interface states at oxide/Si(100) interface2013

    • 著者名/発表者名
      Yoshiyuki Yamashita, Hideki Yoshikawa, Toyohiro Chikyow, and Keisuke Kobayashi
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys.

      巻: 113 ページ: 163707

    • DOI

      10.1063/1.4803

    • 査読あり
  • [雑誌論文] New Direct Spectroscopic Method for Determination of Bias-Dependent Electronic States: Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy Under Device Operation2013

    • 著者名/発表者名
      Yoshiyuki Yamashita, Hideki Yoshikawa, Toyohiro Chikyow, and Keisuke Kobayashi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52 ページ: 108005

    • DOI

      10.7567/JJAP.52.108005

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Investigation of the effect of oxygen on the near-surface electron accumulation in non-polar m-plane (10-10) InN Film by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy2013

    • 著者名/発表者名
      A. Yang, Y. Yamashita, H. Yoshikawa, T. Yamaguchi, M. Imura, M. Kaneko, S. Ueda, O. Sakata, Y. Nanishi, K. Kobayashi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys

      巻: 52 ページ: 08JD01

    • DOI

      10.7567/JJAP.52.08JD01

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Systematic Investigation of Surface and Bulk Electronic Structure of Undoped In-polar InN Epilayers by Hard X-ray Photoelectron Spectroscopy2013

    • 著者名/発表者名
      M. Imura, S. Tsuda, T. Nagata, H. Takeda, L. Meiyong, A. Yang, Y. Yamashita, H. Yoshikawa, Y. Koide, K. Kobayashi, Tomohiro, Masamitsu, Nao, Tsutomu, Yasushi
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys

      巻: 114 ページ: 033505

    • DOI

      10.1063/1.4812570

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Room temperature redox reaction by oxide ion migration at carbon/Gd-doped CeO2 heterointerface probed by an in situ hard x-ray photoemission and soft x-ray absorption spectroscopies2013

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, Miyoshi, Y. Yamashita, H. Yoshikawa, K. Terabe, K. Kobayashi, Yamaguchi
    • 雑誌名

      Sci. Tech. Adv. Mat

      巻: 14 ページ: 045001

    • DOI

      10.1088/1468-6996/14/4/045001

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Direct observation of redox state modulation at carbon/amorphous tantalum oxide thin film hetero-interface probed bymeans of in situ hard X-ray photoemission spectroscopy2013

    • 著者名/発表者名
      T. Tsuchiya, Miyoshi, Y. Yamashita, H. Yoshikawa, K. Terabe, K. Kobayashi, Yamaguchi
    • 雑誌名

      Solid State Ion.

      巻: 14 ページ: 110-118

    • DOI

      10.1016/j.ssi.2013.09.015

    • 査読あり
  • [学会発表] バイアス印加硬X線光電子分光法によるゲートスタック構造内 のポテンシャル分布の直接観測2013

    • 著者名/発表者名
      山下良之, 吉川英樹, 知京豊裕, 小林啓介
    • 学会等名
      第33回日本表面科学学術講演会
    • 発表場所
      つくば
    • 年月日
      20131126-20131128
  • [学会発表] Electronic Structures under High - k Device Operation: XPS Study2013

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamashita
    • 学会等名
      JJAPーMRS
    • 発表場所
      同志社大学
    • 年月日
      20130916-20130920
    • 招待講演
  • [学会発表] “Direct observation of electronic states in gate stack structures: XPS under device operation2013

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamashita, H. Yoshikawa, T. Chikyo, K. Kobayashi
    • 学会等名
      19th International Vacuum Congress
    • 発表場所
      Paris
    • 年月日
      20130909-20130913
  • [図書] ポストシリコン半導体-ナノ成膜ダイナミクスと基盤・界面効果2013

    • 著者名/発表者名
      山下良之
    • 総ページ数
      434-442
    • 出版者
      NTS

URL: 

公開日: 2015-05-28  

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