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2014 年度 研究成果報告書

光照射によるナノ領域の光物性制御の理論解析と高密度光メモリへの応用

研究課題

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研究課題/領域番号 23560045
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 応用光学・量子光工学
研究機関石川工業高等専門学校

研究代表者

佐野 陽之  石川工業高等専門学校, その他部局等, 教授 (80250843)

連携研究者 桑原 正史  独立行政法人産業技術総合研究所, 光技術研究部門, 主任研究員 (60356954)
島 隆之  独立行政法人産業技術総合研究所, 光技術研究部門, 主任研究員 (10371048)
研究期間 (年度) 2011-04-28 – 2015-03-31
キーワード光メモリ / 超解像 / シミュレーション / 第一原理計算 / 誘電率
研究成果の概要

光ディスク内の光と熱の伝わりを同時にシミュレーションするシステムを開発した。そしてシミュレーションによって、超解像効果(光を細く絞ったときの限界値より小さい記録マークを読める現象)の仕組みを明らかにし、この超解像効果に最適な条件(入射光強度、ディスク回転速度、機能層膜厚など)を見つけた。また、超解像効果の元となる材料(InSbなど)が光照射で溶ける時の変化を計算によって調べ、材料の性質が半導体的から金属的に変化することが分かった。

自由記述の分野

光物性

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公開日: 2016-06-03  

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