研究課題
基盤研究(C)
機械要素の損傷は、き裂が成長することで生じる。このき裂進展を理解するため、本課題では、3次元センサーを有する走査型ホールプローブ顕微鏡を開発し、き裂が進展している最中の周辺磁場の変化を常温大気中で観察した。特に、き裂進展の影響を調べるという目的のため、き裂進展時に測定した磁場の測定結果について応力拡大係数で整理した。また、き裂先端では小さな領域が塑性変形するため、ビッカース圧子を用いてき裂先端と同等サイズの塑性変形を発生させた領域についても磁場測定を行った。以上の結果から、磁場はき裂先端の塑性変形領域の影響で変化し、その変化は応力拡大係数、すなわちき裂進展と強い相関関係があることがわかった。
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すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (6件) 備考 (1件)
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