| 研究課題/領域番号 |
23560144
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| 研究機関 | 舞鶴工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
清原 修二 舞鶴工業高等専門学校, 電子制御工学科, 准教授 (40299326)
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| 研究分担者 |
石川 一平 舞鶴工業高等専門学校, 電子制御工学科, 講師 (10511735)
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| キーワード | ナノインプリント / ダイヤモンドライクカーボン / ナノ加工 / ポリシロキサン / 酸素イオンシャワー / ガラス状炭素 |
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| 研究概要 |
本研究では，凸形のDLCパターンを形成する室温硬化ナノインプリント-リフトオ（Room-temperature Curing Imprint‐liftoff：以下RTCILと略す）法を提案した。モールド材料に硬質炭素材料であるGLC（Glass-like Carbon）を用いた。マスク材料には加工耐性が大きく，極めて高い選択比35を得ることができるアルミニウム（Al），またリフトオフのレジストとしてポリシロキサンを用いることを提案した。これらを用いてRTCILを行い，次世代フラットパネルディスプレイ用DLCナノエミッタへの開発を目指すため，先鋭化したDLCナノドットパターン形成について検討した。
高精度な転写パターンを得るために重要なインプリント条件として，インプリント圧力：Pを変化させて転写パターンの形状およびインプリント深さについて検討した。次に，DLCナノドットパターンの先鋭化のために必要な条件を検討するために，先鋭化シミュレーションを行った。GLCモールドを用いたRTCIL法の適切なインプリント条件でポリシロキサンの転写パターンを形成し，その転写パターン上に，Alをシミュレーションで得た条件で真空蒸着した。その後，アセトンでポリシロキサンを除去し，Alマスクパターンを形成した。それをECR 酸素イオンシャワーで加工を行い，DLCナノドットパターンの形成を行った。
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