研究課題
基盤研究(C)
円柱容器内で回転する円板周りの流れ,および,上端面に自由表面を持つ鉛直回転二重円柱間の流れの発生メカニズムの解明と,目的に適した状態を得る流れの制御法の確立を目的とした.容器内回転円板周りの流れでは,半径方向隙間の存在により現れ,レイノルズ数や幾何形状に依存する,各種の流れを特定し,それらの分類を行った.また,高レイノルズ数における,半径方向隙間に生ずる撹乱と円板上のスパイラル渦等との干渉現象を調べた.鉛直回転円柱間の流れでは,奇数渦の二次モードから正規モードへの遷移分岐現象を明らかにした.これらの成果により,三次元回転流の解明に新知見を導入したとともに,好ましい流れを得るための指針を得た.
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