研究課題
基盤研究(C)
様々な産業分野でコ－ティング材料として需要が拡大しつつあるアモルファスカーボン膜の作製を行った。高密度パルスマグネトロンスパッタプラズマを用いてアモルファスカーボン膜を作製した結果、従来の方式に比べ硬度が改善され、最大硬度は18GPaに達した。さらに、膜質の改善や機能性付加を実現するために、各種の反応性ガスを混入し成膜を行った。数%程度の窒素ガスを混入して作製した窒化炭素膜の硬度は20GPaを超え、純アルゴンで作製したアモルファスカーボン膜に比べ30％程度の改善が実現できた。一方、メタンを混入した場合，スパッタによる物理蒸着と化学蒸着が混在した状態で成膜が行われ、その成膜速度は急激に増加した。
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Japanese Journal of Applied Physics
巻: 51巻 ページ: 0 46202(10ペ-ジ)
http://plasma.web.nitech.ac.jp/
