研究課題
基盤研究(C)
30nm以下の微細レジストパターン形成の問題を解決するために、HMDSを用いたレジストパターン形成技術を構築した。HMDSの塗布プロセスによって、レジストパターンの形成状態に違いがあることが分かった。このプロセスの改善により、30nm以下のMTJを形成することが可能となった。30nm以下のMTJの実現に向け、CoFeB/MgO積層構造、2重MgO記録層構造の材料探索を行った。
すべて 2014 2013 2012
すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (11件) (うち招待講演 4件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件) (うち外国 1件)
Journal of Applied Physics
巻: 113巻 ページ: 017C721-1-017C721-3
10.1063/1.4798499
IEEE Transactions on Magnetics
巻: 46巻 ページ: 3829-3832
10.1109/TMAG.2012.2203588
SPIN
巻: 2巻 ページ: 1240003-1- 1240003-12
10.1142/S2010324712400036