研究課題
基盤研究(C)
磁性薄膜の磁気緩和(スピン緩和)現象はパソコンに使われる磁気ディスクの速度や将来のメモリーとして期待されているスピンメモリー素子の消費電力に影響を及ぼす重要な現象であり、その物理的起源を明らかにすることは素子開発に必須の要件になっている。このために代表的な磁性金属である鉄(Fe)にコバルト(Co)あるいは ニッケル(Ni)を微量添加した単結晶合金薄膜を作製して、強磁性共鳴法を用いて磁気緩和係数を測定した。これらの薄膜では熱処理により結晶の状態を向上させると磁気緩和係数は低下することが示された。これは金属内の電子の散乱と磁気緩和が密接に関連しているという理論的予想に合致している。
すべて 2014 2013 2012 2011 その他
すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (5件) 備考 (1件)
Journal of the Magnetic Society of Japan
巻: 37 (3-2)(Proceedings of ICAUMS 2012) ページ: 166-170
IEEE Transactions on Magnetics
巻: 47 (12) ページ: 4682-4685
http://takahashilab.yz.yamagata-u.ac.jp/