| 研究課題/領域番号 |
23560872
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| 研究機関 | 大阪府立大学 |
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研究代表者 |
近藤 和夫 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (50250478)
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| 研究期間 (年度) |
2011-04-28 – 2014-03-31
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| キーワード | めっき / 銅ダマシン / 有機添加剤 / 単一 / ジアリルアミン |
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| 研究概要 |
通常4種類以上用いている銅ダマシンめっきの添加剤を、ジアリルアミンの単一有機添加剤で充填することを新規に見出した。本年は電気化学とQCM測定によりその充填機構を明らかにした。さらに側鎖を新しく設計することにより、充填する添加剤を新たに見出した。また、このジアリルアミンは通常の4種類の添加剤のレベラーとしても有効なことを見出した。研究成果を以下に箇条書きにする。1. 回転円板電極を用いた電気化学測定により、P(DAMA[HCl]SO2)とP(DAMA[HBr]SO2)とでは高速回転で電位を負側に大きくし、より大きな抑制効果を発揮することを見出した。その効果はP(DAMA[HCl]SO2)と比べてP(DAMA[HBr]SO2)の方が著しい。2. QCMを用いた測定により、P(DAMA[HCl]SO2)とP(DAMA[HBr]SO2)とは電極表面に吸着することを確かめた。また、P(DAMA[HBr]SO2)の方が吸着量が大きい。3. したがってこれらのP(DAMA[HCl]SO2)とP(DAMA[HBr]SO2)とは、液流れの早い外部電極に吸着することにより、外部を優先的に抑制する。その結果充填する。4. 側鎖にCH2CH2OHまたはCH2CH2NHClを有するジアリルアミンを新たに設計することにより、充填することを新たに見出した。今後その詳細を検討する。P(DAMA[HBr]SO2)と塩素イオン、SPS、POE-ßナフトールを用いることにより、光沢を有する銅めっきが最大30mA/cm2まで電流密度が上げられることを見出した。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
従来法の経験の積み上げではなく、実験事実にもとづいた厳密な理論解析をもとに対イオン、コモノマー、側鎖を分子設計し、ナノ半導体、ビルドアッププリント基板、三次元実装用のTSVの各用途と対応したジアリルアミン添加剤を分子設計・新規合成した。
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| 今後の研究の推進方策 |
環状アミド系モノマーであるビニルピロリドンや、カチオン系モノマーであるビニルイミダゾールについても、フィルドビアめっきにおける促進作用について検討する。また側鎖についても検討する。また分子軌道計算も併用する。
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| 次年度の研究費の使用計画 |
消耗品：電極材料 ＠15万円×1枚、フォトマスク ＠10万円×2枚、フォトレジスト ＠3.5万円×4枚、硫酸銅他薬品 21万円旅費：ECS 221th meeting(ホノルル) 旅費 ＠35万円×2名、参加費 ＠5万円×2名計150万円
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