実験室に設置可能な小型のMeVイオンマイクロビーム形成装置の開発を目標に、MeVへの拡張可能な数100keVのイオンマイクロビームの形成用の加速レンズ系を設計・製作した。具体的には、既存の2段加速レンズに高エネルギー用の強電位勾配型の単一ギャップ第3加速レンズを付加した3段加速レンズ系を開発した。この3段加速レンズを搭載した数100keVイオンミクロビーム形成装置によりイオンマイクロビームを形成した実験結果から、このエネルギー領域における加速レンズ系の有効性を実証するとともに、MeV領域のイオンマイクロビーム形成のための3加速レンズ系の基本構造を決めた。
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