| 研究課題/領域番号 |
23655205
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 早稲田大学 |
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研究代表者 |
菅原 義之 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (50196698)
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| 研究分担者 |
斉藤 ひとみ 早稲田大学, 理工学術院, 助手 (50609245)
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| 連携研究者 |
PIERRE Hubert Mutin Centre national de la recherche scientifique France, Institut Charles Gerhardt, Director
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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| キーワード | 層状 / 層間化合物 |
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| 研究概要 |
(C_<18>H_<37>)_2N(CH_3)_2+イオンでイオン交換したK_4Nb_6O_<17>・3H_2O とフェニルホスホン酸とのグラフト反応によりK_4Nb_6O_<17>・3H_2O の層間I をフェニルホスホン酸で修飾したA-type 修飾体を作製した。未修飾の層間IIに_<12>H_<25/>NH_3+イオンを導入した中間体とカルボキシアルキルホスホン酸(COOHCnP;n=1-3)とのグラフト反応により、層間II のカルボキシアルキルホスホン酸による修飾を行った。生成物中のナノシートは、2つの層表面に異なる有機ホスホン酸基がグラフトしていると考えられた。
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