離型剤を必要としない UV ナノインプリント用樹脂モールドの開発

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 23655218
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 高分子・繊維材料
• 研究機関: 大阪府立大学
• 研究代表者: 白井 正充 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (00081331)
• 研究期間 (年度): 2011 – 2012
• キーワード: UVインプリント / 樹脂モールド / レプリカモールド / 離型剤フリー / 分解性光硬化樹脂

研究概要

UVインプリントではインプリント過程での石英モールドの汚損は避けられない。本研究では、高価な石英モールドの代替として、レプリカ樹脂モールドを作製する方法を確立した。さらに、樹脂モールド用材料として、離型剤を必要としない特性を有する樹脂材料を開発した。また、表面科学の立場から、樹脂モールド表面の親水/疎水特性とUVインプリント樹脂の剥離性の関連を明らかにした。

研究成果

• [雑誌論文] ヘミアセタールエステル部位を有する新規メタクリラートの合成とリワーク型樹脂への応用 (2013)
  • 著者名/発表者名: 岡村晴之、初瀬達也、白井正充
  • 雑誌名: ネットワークポリマー 巻: 35 ページ: 2-7
  • 査読あり
• [雑誌論文] Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin : Application to Novel Resin Mold for UV Imprint (2012)
  • 著者名/発表者名: S. Horii, K. Yamane, H. Okamura, M. Shirai
  • 雑誌名: J. Photopolym. Sci. Technol 巻: 25 ページ: 735-740
  • 査読あり
• [雑誌論文] 分解性を有する架橋・硬化ポリマーの合成と応用 (2012)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 雑誌名: 高分子 巻: 61 ページ: 865-867
  • 査読あり
• [雑誌論文] Photo-cross-linking of Modified Polystyrene Having Degradable Linkages (2011)
  • 著者名/発表者名: H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
  • 雑誌名: React. Func. Polym 巻: 71 ページ: 480-488
  • 査読あり
• [雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography (2011)
  • 著者名/発表者名: D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
  • 雑誌名: J. Mater. Chem. 巻: 21 ページ: 10407-10417
  • 査読あり
• [雑誌論文] リワーク型低収縮性ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用 (2011)
  • 著者名/発表者名: 岡村晴之、白井正充
  • 雑誌名: ネットワークポリマー 巻: 33 ページ: 74-78
  • 査読あり
• [学会発表] Synthesis and UV Curing of Multi-functional Monomers with Degradable Property (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: SERMACS 2012
  • 発表場所: アメリカ
  • 年月日: 2012-11-14
• [学会発表] Photoacid and Photobase Generators for UV Curing (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: The 2nd International Forum on Radiation Curing Industrial Development
  • 発表場所: 中国
  • 年月日: 2012-09-20
• [学会発表] Photoacid and Photobase Generating Monomers: Photochemistry and Application to UV Imprint Materials (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: European Symposium on Photopolymer Science 2012
  • 発表場所: イタリア
  • 年月日: 2012-09-05
• [学会発表] 新規リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用 (2012)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 学会等名: 第61回高分子年次大会
  • 発表場所: 横浜
  • 年月日: 2012-05-29
• [学会発表] Preparation of Novel Resin Mold fro UV Imprint Lithography using UV-Curable Monomers (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: RadTech UV & EB Technology Expo and Conference
  • 発表場所: アメリカ
  • 年月日: 2012-05-01
• [学会発表] UV Imprint Lithography: Process, Materials, Materials, and Applications (2011)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience
  • 発表場所: 韓国
  • 年月日: 2011-11-29
• [学会発表] Novel Resin Mold for UV nanoimprint: A Demolding Agent Free System (2011)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: 37th International Conference on Micro and NanoEngineering
  • 発表場所: ドイツ
  • 年月日: 2011-09-20
• [学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Application to UV Imprint Lithography (2011)
  • 著者名/発表者名: M. Shirai
  • 学会等名: Photopolymerization Fundamentals 2011
  • 発表場所: アメリカ
  • 年月日: 2011-06-27
• [学会発表] 離型剤フリーなUVインプリント用モールドのための樹脂材料 (2011)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 学会等名: 第60回高分子年次大会
  • 発表場所: 大阪
  • 年月日: 2011-05-25
• [図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術 (2012)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 総ページ数: 104-113
  • 出版者: S&T出版
• [図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用 (2011)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 総ページ数: 77-86
  • 出版者: シーエムシー出版
• [図書] 高分子の架橋と分解III (2011)
  • 著者名/発表者名: 白井正充
  • 総ページ数: 261-267
  • 出版者: シーエムシー出版
• [備考]
  • URL: http://www.chem.osakafu-u.ac.jp/ohka/ohka7/index.html