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2013 年度 研究成果報告書

原子層堆積法による室温強磁性強誘電体人工超格子の成長

研究課題

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研究課題/領域番号 23656022
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関上智大学

研究代表者

坂間 弘  上智大学, 理工学部, 教授 (10242017)

研究期間 (年度) 2011 – 2013
キーワード強磁性強誘電体 / エピタキシャル / 磁気材料 / 誘電体材料 / 超格子
研究概要

ペロフスカイト遷移金属酸化物BiFeO3の薄膜によって、環境に有害な鉛を含まない強誘電体を開発することを目的として研究を行った。特に、本研究ではALD法を製膜方法として選び、BiFeO3の層状成長を目指した。ALD法では、低温での成長が可能であるといった点が強みになる。
最初は、金属原子を1種類だけ含むBiとFeの酸化物の薄膜を作製した。BiとFeの原料としては、低温で分解しやすいBi(Ph)3、Fe(Cp)2を試した結果、基板温度250~350℃において、BiとFeの酸化物の薄膜の層状成長に成功した。そして、これらの原料を組み合せることによって目的のBiFeO3薄膜の層状成長に成功した。

  • 研究成果

    (3件)

すべて 2014 2012 その他

すべて 学会発表 (2件) 備考 (1件)

  • [学会発表] 原子層成長法による酸化鉄の成長2014

    • 著者名/発表者名
      田中優, 田沼格, 坂間弘
    • 学会等名
      第61回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      青山学院大学相模原キャンパス
    • 年月日
      2014-03-18
  • [学会発表] SrTiO3(111)上のSrRuO3薄膜の成長2012

    • 著者名/発表者名
      江森万里, 田沼格, 干場光, 荒井拓郎, 徳安良太, 坂間弘
    • 学会等名
      第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学早稲田キャンパス
    • 年月日
      2012-03-15
  • [備考] ホームページ

    • URL

      http://www.ph.sophia.ac.jp/~saka-ken/research/multiferro/

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公開日: 2015-06-25  

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