| 研究概要 |
高温環境下で自己的にき裂が治癒する SiNx/SiCy 積層薄膜を作製するとともに,き裂治癒の条件や積層構造が治癒能力に及ぼす影響について検討した.SiNx 単層薄膜ではき裂はほとんど治癒しなかったが, SiNx/SiCy 積層薄膜の場合には優れた自己き裂治癒能力を示した.き裂の治癒は加熱温度および加熱時間に依存し,加熱温度が高くなるほど,または加熱時間が長くなるほど,治癒が促進する傾向にあった.また,SiNx/SiCy 積層薄膜における自己き裂治癒能力と耐熱衝撃性はトレードオフの関係にあった.
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