高アスペクト次世代ナノ微細構造加工表面の非破壊内部情報計測に関する

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 23656097
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 高橋 哲 東京大学, 大学院・工学系研究科, 准教授 (30283724)
• 研究分担者: 高増 潔 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (70154896)
• 研究期間 (年度): 2011 – 2012
• キーワード: 精密位置決め / 加工計測

研究概要

従来,断面を切りだした後,電子顕微鏡等で高分解能観察するといった破壊計測をせざるをえなかったナノインプリント加工表面等の高アスペクト次世代ナノ微細構造加工表面の非破壊内部情報計測を目指した.プラズモン共鳴を利用した近接場光応答を検出することで,ナノインプリント加工表面内部情報(残膜厚)の定量評価が可能であることを,マクスウェル方程式に基づいた計算機シミュレーションおよび基礎実験により示した.

研究成果

• [雑誌論文] Study on nano thickness inspection for residual layer of nanoimprint lithography using near-field optical enhancement of metal tip (2013)
  • 著者名/発表者名: S. Takahashi, Y. Ikeda, K. Takamasu
  • 雑誌名: CIRP Annals 巻: 62/1
  • DOI: DOI:10.1016/j.cirp.2013.03.020
  • 査読あり
• [雑誌論文] Influence of standing wave phase error on super-resolution optical inspection for periodic microstructures (2012)
  • 著者名/発表者名: R. Kudo, S. Usuki, S. Takahashi, K. Takamasu
  • 雑誌名: Meas. Sci. Technol 巻: 23 ページ: 0540071-3
  • DOI: DOI:10.1088/0957-0233/23/5/054007
  • 査読あり
• [雑誌論文] Super resolution opticalmeasurements of nanodefects on Siwafer surface using infrared standing evanescent wave (2011)
  • 著者名/発表者名: S. Takahashi, R. Kudo, S. Usuki, K.Takamasu
  • 雑誌名: CIRP Annals 巻: 60/1 ページ: 523-526
  • DOI: DOI:10.1016/j.cirp.2011.03.053
  • 査読あり
• [学会発表] Study on lateral resolution improvement of laser-scanning imaging for nano defects inspection (2013)
  • 著者名/発表者名: H. Yokozeki, R. Kudo, S. Takahashi , K . Takamasu
  • 学会等名: The 11th International Symposium on Measurement Technology and Intelligent Instruments(オーラル採択 済み)
  • 発表場所: アーヘン(ドイツ)
  • 年月日: 2013-07-03
• [学会発表] 半導体の線幅標準に関する研究(第10報)-AFM及びSTEMによるレジスト形状測定- (2013)
  • 著者名/発表者名: 沖藤春樹,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2012年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2013-03-13
• [学会発表] スポット照明の重複シフトによる光学式超解像検査法-提案手法の理論的検討- (2013)
  • 著者名/発表者名: 工藤良太,横関宏樹,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2012年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2013-03-13
• [学会発表] 半導体の線幅標準に関する研究(第9報)-STEM画像を用いたレジスト形状の測定- (2012)
  • 著者名/発表者名: 沖藤春樹,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2012年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 福岡
  • 年月日: 2012-09-14
• [学会発表] 定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第15報)-コヒーレント結像逐次再構成型超解像装置の開発- (2012)
  • 著者名/発表者名: 工藤良太,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2012年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 福岡
  • 年月日: 2012-09-14
• [学会発表] DESIGN VALUE USE TYPE SUPER-RESOLUTION OPTICAL INSPECTION FOR MICROFABRICATED STRUCTURE DEFECTS BY USING STANDING WAVE ILLUMINATION SHIFT (2012)
  • 著者名/発表者名: R. Kudo, S. Takahashi , K. Takamasu
  • 学会等名: XX IMEKO World Congress
  • 発表場所: 釜山(韓国)
  • 年月日: 2012-09-10
• [学会発表] Super-ResolutionVisual Inspection for Microstructures Manufacturing (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoru Takahashi
  • 学会等名: The 3rd International Conference on Digital Manufacturing & Automation
  • 発表場所: 桂林(中国)
  • 年月日: 2012-08-15
• [学会発表] 定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第13報)-FDTD法を用いた微細配線の散乱特性解析- (2012)
  • 著者名/発表者名: 天野佑基,工藤良太,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2012年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2012-03-16
• [学会発表] 定在波シフトによる半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第14報)-コヒーレント結像逐次再構成型超解像法- (2012)
  • 著者名/発表者名: 工藤良太,高橋哲,高増潔,臼杵深
  • 学会等名: 2012年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 東京
  • 年月日: 2012-03-16
• [学会発表] Sub-nanometer line width and line profile measurement for CD-SEM calibration by using STEM (2012)
  • 著者名/発表者名: Kiyoshi Takamasu, Haruki Okitou, Satoru Takahashi, Mitsuru Konno, Osamu Inoue, Hiroki Kawada
  • 学会等名: SPIE Advanced Lithography 2012
  • 発表場所: Sanjose USA
  • 年月日: 2012-02-15
• [学会発表] 近赤外エバネッセント定在波を用いた半導体ウエハ表面の超解像光学式欠陥検査(第2報)-フィルタによるエラーの影響抑制- (2011)
  • 著者名/発表者名: 工藤良太,高橋哲,高増潔
  • 学会等名: 2011年度精密工学会秋季大会学術講演会講演論文集
  • 発表場所: 金沢
  • 年月日: 2011-09-22
• [学会発表] Experimental analysis of influence of error on super-resolution optical inspection using standing wave (2011)
  • 著者名/発表者名: R. Kudo, S. Usuki, S. Takahashi, K.Takamasu
  • 学会等名: 10th International Symposium of Measurement Technology and Intelligent Instruments
  • 発表場所: Daejeon, Korea
  • 年月日: 2011-07-01
• [備考]
  • URL: http://www.nanolab.t.u-tokyo.ac.jp/
• [産業財産権] 照明装置および顕微観察装置 (2013)
  • 発明者名: 高橋哲,高増潔,工藤良太,臼杵深
  • 権利者名: 東京大学
  • 産業財産権番号: PCT/JP2013/054821
  • 出願年月日: 2013-02-25
  • 外国
• [産業財産権] 顕微観察装置 (2012)
  • 発明者名: 高橋哲,工藤良太,高増潔
  • 権利者名: 東京大学
  • 産業財産権番号: 特願 2012-178326
  • 出願年月日: 2012-08-10