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2012 年度 実績報告書

高輝度フェムト秒収束電子線発生によるワイドギャップ半導体の時空間同時分解計測開発

研究課題

研究課題/領域番号 23656206
研究機関東北大学

研究代表者

秩父 重英  東北大学, 多元物質科学研究所, 教授 (80266907)

キーワード電気・電子材料 / 高輝度フェムト秒収束電子線 / ワイドバンドギャップ半導体 / 時間空間同時分解計測 / 結晶評価
研究概要

半導体・蛍光体ナノ構造や量子構造においてナノメートル領域で起きる発光過程の動的観測を行うには、サブマイクロメートル台の空間分解能とピコ秒台の時間分解能を兼ね備えたスペクトロスコピーが必要となる。本研究の目的は、禁制帯幅が広い材料にもキャリア励起が可能であるがその発生が困難なフェムト秒~ピコ秒パルス電子線を高効率で発生し、それをナノメートル台の微小領域に集束する時間・空間同時分解カソードルミネッセンス(STRCL)計測装置を構築・確立し、ワイドギャップ半導体量子井戸・ナノ構造において転位等の構造欠陥が非輻射再結合寿命に与える影響や、ナノ構造サイズが輻射寿命に与える影響を把握することである。
平成24年度は、従来用いていた背面入射型光電子銃(PE-gun)に代わって、励起効率も光電子総量も高くできる前面入射型PE-gunの開発を行いSTRCL計測に用いた。その結果、光電子量は従来に比べ1桁以上増加した。これと2次電子検出器の改良により、当該PE-gunを走査型電子顕微鏡(SEM)に組み込んだSTRCL装置の空間分解能も約10倍に改善した。これら一連の成果により加速電圧を広範囲に変化させられるようになり、高空間分解能STRCL測定が可能になった。また、低加速電圧(6.5 kV)においてサブマイクロメートルの空間分解能を維持しつつ、表面近傍の構造に対するSTRCL測定の感度が向上することも実証した。
具体的には、フェムト秒電子線による励起が有効なAlN、高AlNモル分率AlGaN混晶の局所発光ダイナミクスを調査し、カチオン空孔密度と非輻射再結合寿命、不純物総量と低温の輻射再結合寿命に強い相関があることを明らかにした。

  • 研究成果

    (14件)

すべて 2013 2012 その他

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (11件) (うち招待講演 3件)

  • [雑誌論文] Spatio-time-resolved cathodoluminescence studies on freestanding GaN substrates grown by hydride vapor phase epitaxy2013

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu, Y. Ishikawa, M. Tashiro, K. Hazu, K. Furusawa, H. Namita, S. Nagao, K. Fujito, and A. Uedono
    • 雑誌名

      Electrochemical Society Transactions

      巻: Vol. 50, No.42 ページ: 1-8

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Time-resolved luminescence studies on AlN and high AlN mole fraction AlGaN alloys2013

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu, T. Onuma, K. Hazu, and A. Uedono
    • 雑誌名

      Physica Status Solidi (c)

      巻: 10 ページ: 501-506

    • DOI

      10.1002/pssc.201200676

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Local lifetime and luminescence efficiency for the near-band-edge emission of freestanding GaN substrates determined using spatio-time-resolved cathodoluminescence2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Ishikawa, M. Tashiro, K. Hazu, K. Furusawa, H. Namita, S. Nagao, K. Fujito, and S. F. Chichibu
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 101 ページ: 212106 1-4

    • DOI

      10.1063/1.4767357

    • 査読あり
  • [学会発表] Spatio-time-resolved cathodoluminescence study using a femtosecond focused electron beam on freestanding GaN substrates grown by hydride vapor phase epitaxy2012

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu, Y. Ishikawa, M. Tashiro, K. Hazu, K. Furusawa, S. Nagao, K. Fujito, and A. Uedono
    • 学会等名
      The 39th International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS 2012)
    • 発表場所
      Santa Barbara, CA, USA
    • 年月日
      2012-08-29
  • [学会発表] Time-resolved luminescence studies on AlN and high AlN mole fraction AlGaN alloys

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu and A. Uedono
    • 学会等名
      The Fourth International Symposium on Growth of III-Nitrides (ISGN-4)
    • 発表場所
      St. Petersburg, Russia
    • 招待講演
  • [学会発表] Spatio-time-resolved cathodoluminescence studies on freestanding GaN substrates grown by hydride vapor phase epitaxy

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu, Y. Ishikawa, K. Hazu, M. Tashiro, K. Furusawa, H. Namita, S. Nagao, K. Fujito, and A. Uedono
    • 学会等名
      Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science (PRiME 2012), ECS222nd
    • 発表場所
      Hawaii, USA
    • 招待講演
  • [学会発表] III-V族窒化物半導体の欠陥評価最前線

    • 著者名/発表者名
      秩父重英,上殿明良
    • 学会等名
      応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 第148回研究集会
    • 発表場所
      グランキューブ大阪(大阪国際会議場)
    • 招待講演
  • [学会発表] Local carrier dynamics in freestanding GaN substrates grown by hydride vapor phase epitaxy studied using the spatio-time-resolved cathodoluminescence technique

    • 著者名/発表者名
      K. Furusawa, Y. Ishikawa, M. Tashiro, K. Hazu, S. Nagao, K. Fujito, A. Uedono, and S. F. Chichibu
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2012 (IWN2012)
    • 発表場所
      Sapporo, Japan
  • [学会発表] Impacts of point defects on the photoluminescence lifetime of Si-doped Al0.6Ga0.4N epilayers grown on an AlN template

    • 著者名/発表者名
      S. F. Chichibu, K. Hazu, Y. Ishikawa, M. Tashiro, H. Miyake, K. Hiramatsu, and A. Uedono
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride Semiconductors 2012 (IWN2012)
    • 発表場所
      Sapporo, Japan
  • [学会発表] 表面入射型パルス光電子銃を搭載した時間空間分解カソードルミネッセンス装置によるワイドバンドギャップ半導体の評価

    • 著者名/発表者名
      古澤健太郎,石川陽一,田代公則,羽豆耕治,秩父重英
    • 学会等名
      2012年秋季応用物理学会
    • 発表場所
      愛媛大学,愛媛県
  • [学会発表] m面GaN基板上にNH3-MBE成長したAl0.25Ga0.75Nの時間空間分解CL評価-GaN基板のチルトモゼイクが発光特性に及ぼす影響-

    • 著者名/発表者名
      秩父重英,羽豆耕治,石川陽一,田代公則,古澤健太郎,長尾哲,藤戸健史
    • 学会等名
      2012年秋季応用物理学会
    • 発表場所
      愛媛大学,愛媛県
  • [学会発表] 六方晶BN微結晶の時間・空間分解カソードルミネッセンス評価

    • 著者名/発表者名
      石川陽一,田代公則,羽豆耕治,古澤健太郎,小南裕子,原和彦,秩父重英
    • 学会等名
      2012年秋季応用物理学会
    • 発表場所
      愛媛大学,愛媛県
  • [学会発表] Si添加Al0.6Ga0.4N混晶薄膜の時間分解カソードルミネッセンス評価

    • 著者名/発表者名
      羽豆耕治,石川陽一,田代公則,古澤健太郎,三宅秀人,平松和政,上殿明良,秩父重英
    • 学会等名
      2013年春季応用物理学会
    • 発表場所
      神奈川工大, 神奈川県
  • [学会発表] 高輝度表面入射型パルス電子銃を搭載した時間空間分解カソードルミネッセンス装置によるHVPE成長GaN基板の評価

    • 著者名/発表者名
      石川陽一,古澤健太郎,田代公則,羽豆耕治,長尾哲,池田宏隆,藤戸健史,秩父重英
    • 学会等名
      2013年春季応用物理学会
    • 発表場所
      神奈川工大, 神奈川県

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公開日: 2014-07-24  

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