2012 年度研究成果報告書

スパッタリング法による自己組織化ナノ構造テンプレート形成技術の確立

研究課題

研究課題/領域番号	23656207
研究種目	挑戦的萌芽研究
配分区分	基金
研究分野	電子・電気材料工学
研究機関	東北大学
研究代表者	齊藤伸東北大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (50344700)
研究期間 (年度)	2011 – 2012
キーワード	自己組織化 / ドライプロセス / 薄膜 / スパッタリング
研究概要	ナノメートルオーダの周期構造を安定に形成する材料・プロセス技術は、将来の電子デバイスの量産に際して基盤技術となる。本研究ではスパッタリングをベースとしたドライプロセスのみにより、上記配列組織を形成させる技術を検討した。立方晶/正方晶系材料については、結晶軸配向制御技術および大粒径化技術を確立し、窒素ガス吸着/窒化プロセスによりCu(001)/CuN表面上で、金属ナノアイランドの周期的初期核配列形成に成功した。六方晶系材料についてはc面配向・大粒径化技術まで確立した。