モンテカルロ法・分子動力学法融合型次世代電子線リソグラフィシミュレーションの開発

2013 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 23656245
• 研究種目: 挑戦的萌芽研究
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 電子デバイス・電子機器
• 研究機関: 大阪府立大学
• 研究代表者: 安田 雅昭 大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (30264807)
• 研究期間 (年度): 2011 – 2013
• キーワード: 電子線リソグラフィ / モンテカルロ法 / 分子動力学法 / 電子線露光 / 現像 / レジスト

研究概要

電子散乱のモンテカルロ法と分子動力学法を組み合わせることにより、分子レベルでパターン形成過程を再現できる電子線リソグラフィシミュレーションを開発した。電子線露光過程はモンテカルロ法により求めたレジスト中の吸収エネルギー分布に基づきレジスト分子の主鎖を切断することで再現した。現像過程は電子線露光により切断された分子切片を小さなものより順に表面から除去して行くことで再現した。開発したシミュレーションにより、パターンの形成過程、ラインエッジラフネス、有機高分子試料の電子線照射損傷を解析することが出来た。

研究成果

• [雑誌論文] トップダウンナノ加工のシミュレーションとナノ空間創生 (2014)
  • 著者名/発表者名: 安田雅昭, 多田和広, 平井義彦
  • 雑誌名: 機能材料 巻: Vol.34 ページ: 41-49
• [雑誌論文] Molecular Simulation of Pattern Formation in Electron Beam Lithography (2013)
  • 著者名/発表者名: M. Yasuda, H. Sakai, R. Takai, H. Kawata, Y. Hirai
  • 雑誌名: Microelectronic Engineering 巻: Vol.112 ページ: 287-290
  • 査読あり
• [学会発表] 電子線リソグラフィの分子シミュレーション(2) (2014)
  • 著者名/発表者名: 道下勝司, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第61回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 相模原
  • 年月日: 2014-03-18
• [学会発表] Electron Beam Lithography Simulation for Nanometer-scale Patterning (2013)
  • 著者名/発表者名: K. Michishita, M. Yasuda, H. Kawata and Y. Hirai
  • 学会等名: 2013 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Sapporo, Japan
  • 年月日: 2013-11-06
• [学会発表] 電子線リソグラフィにおけるラインエッジラフネスの分子動力学解析(2) (2013)
  • 著者名/発表者名: 道下勝司, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第18回分子動力学シンポジウム
  • 発表場所: 東京都
  • 年月日: 2013-05-17
• [学会発表] 電子線リソグラフィの分子シミュレーション (2013)
  • 著者名/発表者名: 道下勝司, 高井里奈, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第60回応用物理学会春季学術講演会
  • 発表場所: 厚木
  • 年月日: 2013-03-28
• [学会発表] 電子線リソグラフィにおけるパターン形成の分子シミュレーション (2012)
  • 著者名/発表者名: 高井里奈, 酒井裕史, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第53回真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 神戸
  • 年月日: 2012-11-15
• [学会発表] Molecular Dynamics Study of Pattern Formation in Electron Beam Lithography (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Yasuda, H. Sakai, H. Kawata, Y. Hirai
  • 学会等名: 38th International Conference on Micro- and Nano-Engineering 2012
  • 発表場所: Toulouse, France
  • 年月日: 2012-09-17
• [学会発表] 電子線リソグラフィにおけるラインエッジラフネスの分子動力学解析 (2012)
  • 著者名/発表者名: 酒井裕史, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第17回分子動力学シンポジウム
  • 発表場所: 東京都
  • 年月日: 2012-06-05
• [学会発表] Molecular Simulation of Electron-Irradiation Damages in Resist Materials (2012)
  • 著者名/発表者名: M. Yasuda, K. Araki, H. Sakai, H. Kawata, Y. Hirai
  • 学会等名: Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication
  • 発表場所: Hawaii, USA, MAY 30
  • 年月日: 2012-05-30
  • 招待講演
• [学会発表] SEM 観察における有機高分子試料の構造変化解析 (2012)
  • 著者名/発表者名: 安田雅昭, 荒木康誠, 酒井裕史, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 日本顕微鏡学会第68回学術講演会
  • 発表場所: つくば
  • 年月日: 2012-05-14
• [学会発表] 分子動力学法による有機高分子材料の電子線照射損傷の解析 (2012)
  • 著者名/発表者名: 荒木康誠, 酒井裕史, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第58回応用物理学会関係連合講演会
  • 発表場所: 東京都
  • 年月日: 2012-03-16
• [学会発表] 有機高分子試料への電子ビーム照射の分子シミュレーション(2) (2011)
  • 著者名/発表者名: 荒木康誠, 酒井裕史, 安田雅昭, 川田博昭, 平井義彦
  • 学会等名: 第52回真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 東京都
  • 年月日: 2011-11-16