研究課題
挑戦的萌芽研究
抵抗加熱式真空蒸着装置を用いて, 厚さ約60nmのPd-Cu-Ge金属ガラス薄膜をSiウエハー基板上に作製し, ガラス転移温度ならびに結晶化温度を電気抵抗測定により評価した.これらの温度近傍まで加熱した後に, 薄膜の膜厚, 密度, 表面粗さをX線反射率測定で評価した.これらの値は特に結晶化によって大きく変化した.すなわち, 結晶化によって密度が増大し, 密度の増大に対応して膜厚が減少した.また, 結晶化によって表面粗さが増大した.
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