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2014 年度 実績報告書

ワイドバンドギャップ半導体結晶をベースとした高感度ホログラム記録材料の開発

研究課題

研究課題/領域番号 23686011
研究機関宇都宮大学

研究代表者

藤村 隆史  宇都宮大学, オプティクス教育研究センター, 准教授 (50361647)

研究期間 (年度) 2011-04-01 – 2015-03-31
キーワードフォトリフラクティブ効果 / 窒化物結晶 / ホログラム記録材料
研究実績の概要

本年度は予定を変更してAlN結晶におけるフォトリフラクティブ特性と光誘起吸収特性をより詳細に評価した。使用したAlN結晶は450nmに吸収ピークをもつバルク無添加AlN結晶である。測定では電気光学変調器を用いてポンプ光の偏光を90度回転させプローブ光との干渉のON/OFFをスイッチし、吸収変化による信号変化の寄与を除外して2光波混合測定を行った。その結果、屈折率格子ゲインとして0.6cm-1という大きな値を得ることができた。この値は、以前測定した値よりも数倍以上大きな値であり、かつ励起波長405nmの時の値と比べても大きな値である。かつ得られた光強度依存性は0.2W/cm2以上の光強度でほぼ一定値をとり、さらに応答速度の光強度に対する線形性からAlN結晶における波長325nmにおけるフォトリフラクティブ効果は典型的な1準位モデルとして動作していると結論づけることができた。一方で、波長325nm励起の光誘起吸収スペクトル測定では、波長228nm、280nm、450nmにそれぞれ正、負、正の吸収変化ピークが見られたがこれらのピークはほぼ同じ時定数で緩和しており、同一の吸収起源であることがわかった。また緩和のプロファイルは単純な指数関数型ではなく、拡張指数関数型で緩和していくことがわかった。これは、高い欠陥密度によって上準位にある電子が伝導帯などを介さずに直接下準位に遷移して緩和していることを示唆している。また観測された光誘起吸収の緩和の時定数は130分程度であり、直接遷移で下準位に緩和はするものの上準位は熱的には比較的安定な準位であることがわかった。したがって、今回の光誘起吸収に関与した上準位と下準位の2準位のトラップ準位は、低い光強度で飽和状態に達し、実効的な1準位モデルとしてフォトリフラクティブ効果を引き起こしていることを明らかにすることができた。

現在までの達成度 (段落)

26年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • 研究成果

    (3件)

すべて 2015 2014

すべて 学会発表 (3件)

  • [学会発表] Photorefractive properties of undoped AlN crystals in the deep UV spectral region2015

    • 著者名/発表者名
      Ryushi Fujimura and Yuki Kubo
    • 学会等名
      Photorefractive Photonics 2015
    • 発表場所
      Villars, Switzerland
    • 年月日
      2015-06-16 – 2015-06-19
  • [学会発表] 深紫外励起によるAlN結晶の吸収スペクトル変化2015

    • 著者名/発表者名
      久保雄紀、藤村隆史
    • 学会等名
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      東海大学
    • 年月日
      2015-03-11 – 2015-03-14
  • [学会発表] AIN結晶の深紫外線領域におけるフォトリフラクティブ特性2014

    • 著者名/発表者名
      久保雄紀、藤村隆史
    • 学会等名
      第75回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      北海道大学
    • 年月日
      2014-09-17 – 2014-09-20

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公開日: 2016-06-01  

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