高品質酸化物ナノ粒子製造のための核発生と成長過程の厳密評価用マイクロデバイス開発

研究成果発表報告書

• 研究課題/領域番号: 23686113
• 研究種目: 若手研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 反応工学・プロセスシステム
• 研究機関: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
• 研究代表者: 陶 究 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 化学プロセス研究部門, 主任研究員 (60333845)
• 研究協力者: 青木 光子 ; 小野 剛 ; 佐藤 剛史 ; 浜根 大輔 ; 川﨑 慎一朗 ; 伯田 幸也 ; 高島 浩 ; 大原 基広 ; 竹林 良浩 ; 依田 智 ; 古屋 武 ; 佐藤 敏幸 ; 日秋 俊彦 ; 畑田 清隆 ; KÖLBL Andreas ; KRAUT Manfred ; DITTMEYER Roland
• 研究期間 (年度): 2011-04-01 – 2016-03-31

研究成果

• [産業財産権] 耐熱耐圧耐食性電気化学マイクロセル (2012)
  • 発明者名: 陶 究, 畑田清隆
  • 権利者名: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 特願2012-028275
  • 出願年月日: 2012-02-13
  • 取得年月日: 2016-02-19
• [産業財産権] 耐熱耐圧耐食性マイクロ電極の製造方法 (2012)
  • 発明者名: 陶 究, 畑田清隆
  • 権利者名: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • 産業財産権種類: 特許
  • 産業財産権番号: 特願2012-028274
  • 出願年月日: 2012-02-13
  • 取得年月日: 2016-02-19