2012 年度研究成果報告書

ジスルフィド交換反応を用いた新規刺激応答性表面の調製と遺伝子導入への応用

研究課題

研究課題/領域番号	23700566
研究種目	若手研究(B)
配分区分	基金
研究分野	医用生体工学・生体材料学
研究機関	東京大学
研究代表者	秋元文東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教 (10585805)
研究期間 (年度)	2011 – 2012
キーワード	バイオマテリアル
研究概要	経済的かつ細胞毒性の低い遺伝子導入技術、リバーストランスフェクション法に用いるための新規機能性表面を開発した。具体的には、細胞に対して毒性を与えない濃度のシステインを含む水溶液に浸漬する事で、カチオン性高分子を培地中に徐放させる機能性細胞培養表面の調製を行った。調製した表面には293T細胞が良好に接着し、細胞毒性を示さないことから、今後さらなる検討を行う事で、遺伝子導入への応用が期待できる。

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