天然原料を用いた水現像可能な環境配慮型電子線微細加工用レジスト材料の創成

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 23710149
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: マイクロ・ナノデバイス
• 研究機関: 富山県立大学
• 研究代表者: 竹井 敏 富山県立大学, 工学部 機械システム工学科, 准教授 (90580069)
• 研究期間 (年度): 2011 – 2012
• キーワード: マイクロナノファブリケーション / リソグラフィ / レジスト / 生物資源

研究概要

植物性天然原料を用いた水現像可能な環境配慮型電子線微細加工用レジスト材料の研究を行った。植物性天然原料を用いた水現像可能な環境配慮型電子線微細加工用レジスト材料による最先端微細加工プロセスのエコグリーン化を推進するため、電子線照射による高感度化、並びに膜収縮性を改善できる植物性原料を用いて合成した。75 keVの電子線描画装置を用いて、植物性原料から合成された環境配慮型電子線微細加工用レジスト材料により100-200 nmのラインパターンの加工に7.0μC/cm2の電子線照射量で成功した。糖鎖化合物から合成された水現像可能な環境配慮型電子線微細加工用レジスト材料は、従来のアクリル系レジスト材料に比べ低い膜収縮性を有した。得られたレジスト材料と好適な条件を用いる技術は、環境対応型ナノデバイス製造に期待できる。

研究成果

• [雑誌論文] Nanoimprinting of TiO2-SiO2photocurable materials with high titanium concentration for CF4/O2etch selectivity (2013)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei
  • 雑誌名: Micro & Nano Lett 巻: 8 ページ: 1-4
  • 査読あり
• [雑誌論文] EUV lithography using water-developable resist material derived from biomass (2013)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Tomoko G. Oyama, Takumi Ichikawa, Atsushi Sekiguchi, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa
  • 雑誌名: Proc. SPIE 巻: 8682 ページ: 86821T
  • 査読あり
• [雑誌論文] Eco-friendly electron beam lithography using water-developable resist material derived from biomass (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Takanori Wakabayashi, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa
  • 雑誌名: Appl. Phys. Lett 巻: 101(033106) ページ: 1-4
  • 査読あり
• [雑誌論文] UV nanoimprint lithography of 70 nm half pitch line pattern using plant-based resist material with lactulose derivative derived from biomass and medicinal drugs (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei
  • 雑誌名: Micro & Nano Lett 巻: 7 ページ: 822-825
  • 査読あり
• [雑誌論文] Development of water-developable resist material derived from biomass in EB lithography (2012)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Takanori Wakabayashi, Atsushi Sekiguchi, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa
  • 雑誌名: Proc. SPIE edited by Hugo Thienpont, Jurgen Mohr, Hans Zappe, and Hirochika Nakajima 巻: 8428 ページ: 84281V.1-84281V.8
  • 査読あり
• [学会発表] Development of water-developable resist material derived from biomass in EB lithography (2013)
  • 著者名/発表者名: Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Tomoko G. Oyama, Takumi Ichikawa, Atsushi Sekiguchi, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, and Seiichi Tagawa
  • 学会等名: 2nd. International EUV Resist Symposium
  • 年月日: 2013-02-13
• [学会発表] トウモロコシでん粉を用いた水現像性微細加工用ネガレジスト材料の開発 (2012)
  • 著者名/発表者名: 竹井 敏
  • 学会等名: ASME日本支部共催「もの作り講演会」
  • 年月日: 2012-09-28
• [学会発表] バイオマス原料を用いた微細加工用レジスト材料の開発 (2012)
  • 著者名/発表者名: 竹井 敏
  • 学会等名: 富山県新世紀産業機構
  • 発表場所: とやまナノテク国際シンポジウム
  • 年月日: 2012-08-31
• [備考] 竹井 敏、「光・電子機能性材料の開発とその基礎特性評価」
  • URL: http://www.pu-toyama.ac.jp/renkei/guidebook/pdf/12.pdf