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2012 年度 実績報告書

高性能な光パターニング構造を形成する光連結性分子材料の開発

研究課題

研究課題/領域番号 23750153
研究機関横浜国立大学

研究代表者

生方 俊  横浜国立大学, 工学研究院, 准教授 (00344028)

キーワード表面レリーフ / アントラセン / 光物質移動 / パターニング
研究概要

光誘起物質移動現象の実用化のために、これまでに全く報告のない新規な光誘起物質移動材料の開発を進めた。それは、物質移動時にはソフトで動きやすい低分子の状態でありながら、パターニング構造(表面レリーフ)形成後には、安定な高分子へと変化する二状態安定材料であり、その二状態間を光によりスイッチできる光連結性低分子化合物である。それらの化合物を合成し、表面レリーフを創製し、その構造の安定性を評価した。
当該年度は、光連結するアントラセン基二つを、エステル基を介して接続した新規光連結性分子を合成し、アントラセン基を一つしか持たないモデル化合物と比較検討を行った。
両化合物の表面レリーフ形成能について調査したところ、マスクを介した紫外露光によって表面レリーフ形成が可能であった。また、いずれも未露光部から露光部への物質移動によって表面レリーフが形成されることがわかった。これらの表面レリーフは、従来の材料に比べて大変わずかな露光エネルギー量でも形成された。さらに、露光部においては、紫外光による二量化および高分子量化反応が進行することを確認した。
形成された表面レリーフの熱安定性を調査するために、表面レリーフ形成後、室温から加熱した。その結果、昇温に伴ってどちらの表面レリーフの消失が観測された。また、両化合物の単量体のガラス転移温度は、ほぼ同じであるにもかかわらず、形成された表面レリーフの平滑化は光連結性化合物の方が高い温度で起こることがわかった。これは、光連結性化合物では高分子量化が起こるために、二量化までしか起こらないモデル化合物よりも形成された表面レリーフの安定性が向上したためであると考えられる。
以上の結果より、高分子量化の起こる光連結性化合物は、高感度に表面レリーフを形成する特性を持ちながら、形成された表面レリーフの安定性は向上することが実証された。

  • 研究成果

    (23件)

すべて 2013 2012

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (18件) (うち招待講演 2件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Phototriggered Micromanufacturing Using Photoresponsive Amorphous SpirooxazineFilms2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Shohei Fujii, Kento Arimatsu, Yasushi Yokoyama
    • 雑誌名

      J. Mater. Chem.

      巻: 22 ページ: 14410-14417

    • DOI

      DOI:10.1039/c2jm32149a

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Facile One-Step Photopatterning of Polystyrene Films2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Yusuke Moriya, Yasushi Yokoyama
    • 雑誌名

      Polym. J.

      巻: 44 ページ: 966-972

    • DOI

      10.1038/pj.2012.40

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-triggered Surface Relief of Polystyrene Films―Highly Photo-sensitive Formation by the Addition of a Benzophenone Derivative2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Shintaro Yamamoto, Yusuke Moriya, Shohei Fujii, Yasushi Yokoyama
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 25 ページ: 675-678

    • DOI

      10.2494/photopolymer.25.675

    • 査読あり
  • [雑誌論文] Bisarylindenols: Fixation of Conformation Makes Basic Properties of Photochromism based on 6π-Electrocyclization Exceptional2012

    • 著者名/発表者名
      Hatsune Ogawa, Kazuya Takagi, Takashi Ubukata, Akiko Okamoto, Noriyuki Yonezawa, Stephanie Delbaere, Yasushi Yokoyama
    • 雑誌名

      Chem. Commun.

      巻: 48 ページ: 11838-11840

    • DOI

      10.1039/c2cc35793c

    • 査読あり
  • [学会発表] 局所的な光反応による表面レリーフ形成2013

    • 著者名/発表者名
      生方 俊
    • 学会等名
      光応答分子材料に関する3大学共同セミナー
    • 発表場所
      キャンパスプラザ京都
    • 年月日
      20130324-20130324
  • [学会発表] スピロオキサジン薄膜およびドロップレットの光誘起物質移動2013

    • 著者名/発表者名
      有松研人・藤井祥平・生方俊
    • 学会等名
      第八回ナノテク交流シンポジウム
    • 発表場所
      横浜市立大学金沢八景キャンパス
    • 年月日
      2013-03-06
  • [学会発表] Formation of Phototriggered Surface Relief on Photopolymerizable Anthracene Film2012

    • 著者名/発表者名
      Megumi Nakayama, Takashi Ubukata, Yasushi Yokoyama
    • 学会等名
      The 9th SPSJ International Polymer Conference (IPC 2012)
    • 発表場所
      Kobe, Japan
    • 年月日
      20121211-20121214
  • [学会発表] Photo-Triggered Mass Transfer by Spatially Patterned Photo‐Isomerization2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Shohei Fujii, Kento Arimatsu
    • 学会等名
      ICEAN-2012: International Conference on Emerging Advanced Nanomaterials
    • 発表場所
      Brisbane, Australia
    • 年月日
      20121022-20121025
    • 招待講演
  • [学会発表] 環状ジアリールエテンを含む液晶中のらせん誘起力の光制御2012

    • 著者名/発表者名
      加藤竜二・竹居祥行・生方 俊・竹下道範・横山 泰
    • 学会等名
      2012年光化学討論会
    • 発表場所
      東工大大岡山キャンパス
    • 年月日
      20120912-20120914
  • [学会発表] ヒト血清アルブミン中におけるジアリールエテンのキラルな光応答挙動2012

    • 著者名/発表者名
      深川真衣・川村 出・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      2012年光化学討論会
    • 発表場所
      東工大大岡山キャンパス
    • 年月日
      20120912-20120914
  • [学会発表] ビスアリールインデノールのフォトクロミズムにおける水素結合効果2012

    • 著者名/発表者名
      高木和也・小川初音・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      2012年光化学討論会
    • 発表場所
      東工大大岡山キャンパス
    • 年月日
      20120912-20120914
  • [学会発表] Phototriggered Surface Relief Formation of Polystyrene Films2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Shintaro Yamamoto, Yusuke Moriya, Shohei Fujii, Kento Arimatsu, Yasushi Yokoyama
    • 学会等名
      The 29th International Conference of Photopolymer Science and Technology (ICPST29)
    • 発表場所
      Chiba University, Japan
    • 年月日
      20120626-20120629
    • 招待講演
  • [学会発表] 光異性化によるスピロオキサジンドロップレットの移動2012

    • 著者名/発表者名
      有松研人・藤井祥平・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      第53回湘北地区懇話会
    • 発表場所
      神奈川大学湘南ひらつかキャンパス
    • 年月日
      20120615-20120615
  • [学会発表] 光異性化によるスピロオキサジンドロップレットの移動2012

    • 著者名/発表者名
      有松研人・藤井祥平・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      第61回高分子年次大会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      20120529-20120531
  • [学会発表] 光連結性アントラセン薄膜を用いた光表面レリーフ形成2012

    • 著者名/発表者名
      中山 恵・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      第61回高分子年次大会
    • 発表場所
      パシフィコ横浜
    • 年月日
      20120529-20120531
  • [学会発表] 液晶中における光応答性環状ジアリールエテンのらせんねじり力2012

    • 著者名/発表者名
      加藤竜二・竹居祥行・生方 俊・竹下道範・横山 泰
    • 学会等名
      第16回液晶化学研究会シンポジウム
    • 発表場所
      横浜国立大学
    • 年月日
      20120518-20120518
  • [学会発表] 蛍光ユニットを高濃度に有する巨大分子の設計と合成2012

    • 著者名/発表者名
      渡邉豪大・佐々木雄一・小澤泰史・具志堅剛史・佐藤直人・生方 俊・横山 泰
    • 学会等名
      第16回液晶化学研究会シンポジウム
    • 発表場所
      横浜国立大学
    • 年月日
      20120518-20120518
  • [学会発表] Phototriggered Self-micromanufacturing Using Photoresponsive Organic Films2012

    • 著者名/発表者名
      Takashi Ubukata, Shohei Fujii, Kento Arimatsu
    • 学会等名
      2012EMN Fall Meeting
    • 発表場所
      Las Vegas, Nevada, USA
    • 年月日
      2012-11-30
  • [学会発表] 光物質移動によるレリーフ形成2012

    • 著者名/発表者名
      生方 俊
    • 学会等名
      産業技術総合研究所所内講演会
    • 発表場所
      産業総合研究所つくばセンター
    • 年月日
      2012-10-03
  • [学会発表] 光によるスピロオキサジン分子の移動に基づく表面レリーフ2012

    • 著者名/発表者名
      生方 俊 ・藤井祥平・有松研人・横山 泰
    • 学会等名
      第61回高分子討論会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2012-09-20
  • [学会発表] スピロオキサジン薄膜の光表面レリーフ形成2012

    • 著者名/発表者名
      有松研人・藤井祥平・生方 俊 ・横山 泰
    • 学会等名
      第61回高分子討論会
    • 発表場所
      名古屋工業大学
    • 年月日
      2012-09-19
  • [学会発表] 光反応による拡散制御に基づくレリーフ形成2012

    • 著者名/発表者名
      生方 俊
    • 学会等名
      第2回液晶若手シンポジウム
    • 発表場所
      芝浦工業大学芝浦キャンパス
    • 年月日
      2012-09-08
  • [産業財産権] パターン形成方法2012

    • 発明者名
      生方 俊、中山 恵、木原 秀元、吉田 勝
    • 権利者名
      生方 俊、中山 恵、木原 秀元、吉田 勝
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      特願2012-250411
    • 出願年月日
      2012-11-14

URL: 

公開日: 2014-07-24  

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