研究課題
若手研究(B)
本研究では、これまで窒化物半導体研究において殆ど注視されていなかった表面再結合過程に注目した。GaN基板の+c、-c表面に加え、非極性(m)表面の時間分解フォトルミネセンス測定を行い、得られた結果を、表面と結晶内部(バルク)に対するレート方程式をもとに解析したところ、表面再結合レートが表面付近のバンドベンディングにより変化することが分かった。ZnOでも同様な結果が得られたことから、これらは、窒化物(有極性)半導体特有の現象であることが分かった。
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