研究課題
若手研究(B)
半導体素子の高性能化に向けてプロセス技術で形成される格子欠陥やヘテロ界面構造を把握することは、電子輸送など特性や構造を制御する上で不可欠である。本研究は電子顕微鏡技術を用いてシリコンカーバイド素子化に伴うイオン注入技術で導入される格子欠陥やコンタクト電極における原子構造を計測した。特に電極界面の原子構造と輸送特性との相関を明らかにし、原子分解構造計測技術と定量的な理論計算との併用が素子の研究開発に有用であることを示した。
すべて 2013 2012 2011
すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (4件) 図書 (1件)
Journal of Applied Physics
巻: 111巻 ページ: 113717(1-8)
DOI:10.1063/1.4729074
Journal of the Ceramics Society of Japan
巻: 119巻 ページ: 783-793
DOI:10.2109/jcersj2.119.783