酸拡散を制御した酸増殖プロセスによるEUV用レジストの高感度化

2012 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 23760698
• 研究種目: 若手研究(B)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: 大阪大学
• 研究代表者: 榎本 一之 大阪大学, 大学院・工学研究科, 特任助教 (50465978)
• 研究期間 (年度): 2011 – 2012
• キーワード: 微細加工 / レジスト / 極端紫外光 / 酸増殖反応 / パルスラジオリシス

研究概要

次世代極端紫外光 (EUV) レジストの開発を目的に、現在採用されている化学増幅型レジストの高感度化が期待できる酸増殖剤の研究を行った。酸増殖剤の放射線化学反応(二次電子との反応性)をパルスラジオリシス法により検討し、酸増殖剤のラジカルアニオンから酸発生剤への電子移動を経由した新たな酸形成反応を見出した。レジスト特性評価では、酸増殖プロセスを採用することで2倍の感度向上と34 nm のL/Sパターン形成に成功した。

研究成果

• [雑誌論文] Acid Generation Mechanism for Extreme Ultraviolet Resists Containing Pinanediol Monosulfonate Acid Amplifiers: A Pulse Radiolysis Study (2012)
  • 著者名/発表者名: K. Enomoto, K. Arimitsu, A. Yoshizawa, R. Joshi, H. Yamamoto, A. Oshima, T. Kozawa, S. Tagawa
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: 51 ページ: 046502
  • DOI: DOI:10.1143/JJAP.51.046502
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electron-Beam-Induced Decomposition Mechanisms of High-Sensitivity Chlorinated Resist ZEP-520A (2012)
  • 著者名/発表者名: T. G. Oyama, K. Enomoto, Y. Kosaka, A. Oshima, M. Washio, S. Tagawa
  • 雑誌名: Applied Physics Express 巻: 5 ページ: 036501
  • DOI: DOI:10.1143/APEX.5.036501
  • 査読あり
• [学会発表] EUV レジスト用酸増殖剤のパルスラジオリシス (2011)
  • 著者名/発表者名: 榎本 一之、有光 晃二、吉澤 篤太郎、山本洋揮、大島 明博、古澤 孝弘、田川 精一
  • 学会等名: 第54回放射線化学討論会
  • 発表場所: 大阪大学産業科学研究所(大阪)
  • 年月日: 2011-09-28
• [学会発表] EUVレジスト用ピナンジオール型酸増殖剤のパルスラジオリシス (2011)
  • 著者名/発表者名: 榎本 一之、有光 晃二、吉澤 篤太郎、山本 洋揮、大島 明博、古澤 孝弘、田川 精一
  • 学会等名: 第60回高分子討論会
  • 発表場所: 岡山大学(岡山)
  • 年月日: 2011-09-28